公开(公告)号：CN115701975B

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202180041654.7

申请日：2021-01-26

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 园井厚宪 ,  半田拓弥 ,  佐藤智哉

IPC: A61K8/36 ,  C11D17/08 ,  A61Q11/00 ,  A61Q11/02 ,  C11D1/04 ,  C11D1/10 ,  C11D1/14 ,  C11D1/18 ,  C11D1/68 ,  C11D1/74 ,  C11D1/75 ,  C11D1/90 ,  C11D1/92 ,  C11D3/37 ,  A61K8/37 ,  A61K8/41 ,  A61K8/44 ,  A61K8/46 ,  A61K8/49 ,  A61K8/60

Abstract: 时的pH值为5.5以上14以下。本发明涉及一种能够发挥优异的假牙牙菌斑去除效果及形成抑制效果的清洁性能高的口腔内安装器具用清洁剂组合物。即，本发明是一种口腔内安装器具用清洁剂组合物，其含有以下的成分(A)及(B)：(A)碳原子数10以上20以下的脂肪酸或其盐以脂肪酸换算量计为0.5质量％以上20质量％以下；(B)选自阴离子表面活性剂

公开(公告)号：CN115427011A

公开(公告)日：2022-12-02

申请号：CN202180028700.X

申请日：2021-01-26

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 半田拓弥 ,  佐藤智哉

IPC: A61K8/81 ,  A61Q11/02 ,  C11D3/20 ,  C11D3/37 ,  A61Q11/00 ,  A61K8/36

Abstract: 本发明涉及一种清洁性能高的口腔内安装器具用清洁剂组合物，其能够发挥优异的假牙牙菌斑去除效果。即，本发明涉及一种口腔内安装器具用清洁剂组合物，其中，含有以下成分(A)及(B)，(A)阴离子性均聚物或共聚物：0.05质量％以上且8质量％以下，该阴离子性均聚物或共聚物包含源自具有羧基、磺基或磷酸基的阴离子性单体(a1)的结构单元，且该阴离子性均聚物或共聚物的质量平均分子量为2,000以上且500,000以下，(B)选自阴离子性表面活性剂、非离子性表面活性剂及两性表面活性剂中的1种或2种以上的表面活性剂；成分(A)的含量与成分(B)的含量的质量比(A)/(B)为0.05以上且50以下，且碳原子数为2以上且6以下的醇(C)的含量小于8质量％。

公开(公告)号：CN108366948B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201680072996.4

申请日：2016-06-23

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 佐藤智哉

IPC: A61K8/46 ,  A61K8/49 ,  A61Q11/00

Abstract: 本发明涉及一种液体口腔用组合物，其通过在使用时以泡沫状应用于口腔内，能够有效地促进阳离子性杀菌剂于口腔内表面的吸附。即，本发明提供一种泡沫喷出容器装液体口腔用组合物，其含有如下成分(A)、(B)及(C)：(A)烷基硫酸钠，0.05质量％以上且1质量％以下；(B)阳离子性杀菌剂，0.001质量％以上且0.1质量％以下；及(C)水，且成分(B)与成分(A)的质量比((B)/(A))为0.005以上且0.7以下，且非离子表面活性剂的含量为1.2质量％以下。

公开(公告)号：CN102575196A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201080047212.5

申请日：2010-10-18

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 野村真人 ,  贵岛悟 ,  井上胜久 ,  福岛哲朗 ,  佐藤智哉

IPC: C11D1/722 ,  C11D1/72 ,  C11D17/08

CPC classification number: C11D1/722

Abstract: 本发明为下述通式(1)所表示的非离子表面活性剂。R-O-(PO)m-(EO)n-H (1)，式中，R表示碳原子数为8～18的饱和直链烃基，该饱和直链烃基中，正辛基的含有比例为20～80mol％，正癸基的含有比例为0～10mol％，碳原子数为12～18的饱和直链烃基的含有比例为20～80mol％，PO表示丙烯氧基，EO表示乙烯氧基，m表示丙烯氧基的平均加成摩尔数，为0.1～5的数，n表示乙烯氧基的平均加成摩尔数，为0.5～20的数，(PO)m和(EO)n按照此顺序嵌段结合。