公开(公告)号：CN1679476A

公开(公告)日：2005-10-12

申请号：CN200510052922.8

申请日：2005-02-28

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 上山健一 ,  多田路子 ,  福原和久

IPC: A61K7/06

CPC classification number: A61K8/362 ,  A61K8/365 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12

Abstract: 本发明涉及含下述成分(A)和(B)的抗冲洗型毛发化妆品，以及使用该毛发化妆品处理毛发的毛发改性方法，其中，(A)为碳原子数2～8的有机二羧酸或其盐，(B)为选自芳香醇、N－烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、聚丙二醇、内酯或环酮的Clog P为－2～3的有机溶剂，该毛发化妆品以水稀释成20重量倍时，25℃的pH是2～5，缓冲容量大于等于0.001克当量/L、小于0.2克当量/L。本发明的毛发化妆品可赋予因染发、电烫、反复过度吹风干燥而受损、干松蓬乱的干燥头发以光泽、整齐、柔顺和弹性。

公开(公告)号：CN1679474A

公开(公告)日：2005-10-12

申请号：CN200510052918.1

申请日：2005-02-28

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 上山健一 ,  长岛望 ,  福原和久

IPC: A61K7/06

CPC classification number: A61K8/362 ,  A61K8/365 ,  A61K8/44 ,  A61Q5/06 ,  A61Q5/12

Abstract: 本发明涉及含下述成分(A)、(B)和(C)的抗冲洗型毛发化妆品，以及使用该毛发化妆品处理毛发的毛发改性方法，其中，(A)为碳原子数2～8的有机二羧酸或其盐，(B)为选自芳香醇、N－烷基吡咯烷酮、碳酸亚烃酯、聚丙二醇、内酯或环酮的Clog P为－2～3的有机溶剂，(C)为乙二胺四乙酸或其盐，该毛发化妆品以水稀释成20重量倍时，25℃的pH是2～5。本发明的毛发化妆品，对因染发和电烫、反复过度吹风和干燥受到损伤、干透的干燥毛发，可赋予其光泽、整齐、柔顺和弹性。

公开(公告)号：CN1154722A

公开(公告)日：1997-07-16

申请号：CN96190317.1

申请日：1996-04-01

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 上山健一 ,  敦贺铁也 ,  市村育久 ,  奥田真介

IPC: C23C18/28 ,  C23C18/31 ,  G11B7/26

Abstract: 本发明涉及能以高成品率制造优质光盘用盘模的制造方法及制造装置。传统的盘模制造技术中，由于溶液中的氧气使基板表面导电化处理时用的含有锡离子的敏感剂中亚锡离子很容易氧化，使之成了盘模制造时缺陷产生的原因，所以要自动化生产且维持良好的成品率，几乎每天都须进行维护。由于本发明的基板表面导电化处理是如下进行的，即用含有三甲铵乙内酯结构的化合物和聚氧乙烯烷基胺类化合物的处理液处理后，用含有锡和钯的胶体溶液处理，然后进行非电镀镀膜处理；根据上述处理方法，可以使自动化工艺过程中维护简易化、并能以高成品率制造出优质的盘模。

公开(公告)号：CN3210746D

公开(公告)日：2001-11-21

申请号：CN01303394.8

申请日：2001-02-28

Applicant: 花王株式会社

Designer： 志贺章 ,  折井孝男 ,  上山健一