公开(公告)号：CN1109354C

公开(公告)日：2003-05-21

申请号：CN96121157.1

申请日：1996-09-28

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 达拉姆·帕鲁·高赛因 ,  约纳桑·韦斯特沃特 ,  中越美弥子 ,  碓井节夫

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/336 ,  H01L21/30

CPC classification number: H01L29/66765 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/0272 ,  H01L29/78621 ,  Y10S438/949

Abstract: 一种简化而且可靠性提高了的制造方法。一种薄膜制造方法，包括在衬底表面上选择地形成光刻胶图形的第1步、在衬底表面和光刻胶图形表面形成薄膜的第2步、除去光刻胶图形以选择地除去其上淀积的薄膜即去掉的第3步，由此制成有所要求图形的薄膜。

公开(公告)号：CN1159072A

公开(公告)日：1997-09-10

申请号：CN96121157.1

申请日：1996-09-28

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 达拉姆·帕鲁·高赛因 ,  约纳桑·韦斯特沃特 ,  中越美弥子 ,  碓井节夫

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/336 ,  H01L21/30

CPC classification number: H01L29/66765 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/0272 ,  H01L29/78621 ,  Y10S438/949

Abstract: 一种简化而且可靠性提高了的制造方法。一种薄膜制造方法，包括在衬底表面上选择地形成光刻胶图形的第1步、在衬底表面和光刻胶图形表面形成薄膜的第2步、除去光刻胶图形以选择地除去其上淀积的薄膜即去掉的第3步，由此制成有所要求图形的薄膜。