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发明公开
处理装置、处理装置的控制方法以及记录系统有权

公开(公告)号：CN112573274A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN202011050676.3

申请日：2020-09-29

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 岛田知明 , 古御堂刚 , 内堀宪治 , 小平宽久

IPC: B65H31/00

Abstract: 本发明涉及处理装置、处理装置的控制方法以及记录系统，减小因印刷或输送而产生的介质的卷曲，能够实现介质的良好的输送、排纸和装载。本发明的处理装置(4)具有：介质支承部(50)，具有支承介质(P)的至少前端部(53)的支承面(50a)；对齐部(38)，对介质(P)进行对齐；可升降的装载部(37)，设置于介质支承部的铅直方向(Z)的下方，具有装载从介质支承部下落的介质(P)的装载面(37a)；以及按压部(51)，具有与支承面相对的按压面(51a)，按压面能够在第一位置(Q1)和比第一位置更靠近支承面的第二位置(Q2)之间移动，按压部构成为在向介质支承部输送介质(P)时配置于第一位置，在对齐部进行对齐后配置于第二位置。

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