一种基于光场调控技术的激光清洗装置

    公开(公告)号:CN112859354A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202110223781.0

    申请日:2021-03-01

    Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控技术的激光清洗装置,包括依次设置的激光器、扩束准直系统、光场调控镜组和动态聚焦镜组,所述的激光器经过扩束准直系统后入射到光场调控镜组,所述的光场调控镜组将激光器输出的高斯光束整形为贝塞尔高斯光束、涡旋光束、径向偏振光束、角向偏振光束,之后经过动态聚焦镜组实现长焦深聚焦。本发明采用光场调控技术,将高斯光束整形为贝塞尔光束、涡旋光束、径向偏振光束、角向偏振光束,易于实现超长焦深的聚焦,避免了平顶光束或矩形光斑聚焦场光场强度的空间分布敏感、在焦平面前后易发生较大的畸变、不利于长焦深聚焦场实现的缺点,可以显著降低激光清洗加工材料表面的热影响,降低加工材料表面的粗糙度。

    一种基于变步长融合算法的薄膜材料光学常数的获取方法

    公开(公告)号:CN112326562A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202011284823.3

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本发明提供了一种基于变步长融合算法的薄膜材料光学常数的获取方法,其特征在于,将模拟退火算法和蚁群算法相融合,加入自适应步长的方法,根据评价函数的值,降低局部搜索步长的数量级防止跳过低谷区,实现对椭圆偏振光谱仪测得的椭偏数据进行快速精确的反演计算,获得光电薄膜的消光系数、折射率和厚度。本发明主要解决了传统蚁群算法难以跳出局部最优解的问题,能有效的防止陷入局部最优解和最优蚂蚁跳过评价函数的低谷区,提高搜索速度和准确度。通过本发明的技术方案,可以提高收敛速度,减少迭代次数,降低评价函数,更快速的获得更精确的光电薄膜的消光系数、折射率和厚度。

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