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公开(公告)号：CN112567889B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201980053571.2
申请日：2019-09-11
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 微波加热装置具备容纳被加热物的加热室、生成微波的微波发生部以及同轴连接器。同轴连接器具有中心导体、绝缘体和外部导体。中心导体与微波发生部的输出端连接。在中心导体与绝缘体之间设置有气隙。根据本方式，能够抑制微波发生部与同轴连接器之间的焊接部处的因热应力导致的焊料裂纹的产生。
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公开(公告)号：CN115104379A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202180014965.4
申请日：2021-01-26
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 本公开的一个方式的高频处理装置具备：收纳被加热物的加热室；振荡部；至少一个供电部；检测部；以及控制部。振荡部产生具有规定的频带中的任意频率的高频电力。至少一个供电部将基于高频电力的入射电力向加热室供给。检测部对入射电力和从加热室返回到至少一个供电部的反射电力进行检测。控制部使振荡部进行频率扫描，并且基于包含频率的每个加热条件的入射电力和反射电力来测定反射特性。控制部基于每个加热条件的表示反射特性的变化的反射变动幅度来决定接下来使用的加热条件。根据本方式，能够最佳地加热各种被加热物。
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公开(公告)号：CN112534965A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980050098.2
申请日：2019-08-01
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/54
摘要： 高频加热装置(1A)具有平板状的第1电极(11)、平板状的多个第2电极(12)、高频电源(20)、匹配部(30)、控制部(40)和电场调整部(50)。多个第2电极(12)与第1电极(11)相对配置。高频电源(20)对第1电极(11)施加高频电压。匹配部(30)配置在第1电极(11)和高频电源(20)之间，取得与高频电源(20)的阻抗匹配。控制部(40)控制高频电源(20)。电场调整部(50)对第1电极(11)与多个第2电极(12)之间形成的多个区域中的电场强度分别独立地进行调整。根据本方式，能够降低加热不均。
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公开(公告)号：CN112237049A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201980038127.3
申请日：2019-04-03
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/54
摘要： 提供提高功率效率的高频加热装置。本发明的高频加热装置具备：第一导体(11)；第二导体(12)，其与所述第一导体隔着空间配置；高频电源(20)，其与所述第一导体和所述第二导体连接，对所述第一导体与所述第二导体之间施加高频电压；以及连接路径(30)，其在所述第一导体的第一连接位置(Pc1)和所述第二导体的第二连接位置(Pc2)处将所述第一导体与所述第二导体电连接，该第一连接位置(Pc1)不同于所述第一导体与所述高频电源连接的第一供电位置(Pf1)，该第二连接位置(Pc2)不同于所述第二导体与所述高频电源连接的第二供电位置(Pf2)。
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公开(公告)号：CN111052861A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880054367.8
申请日：2018-12-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 本发明提供一种微波加热装置，能够控制对加热对象物进行加热的加热区域。本发明的微波加热装置具有：加热室(10)，其收容加热对象物(12)；微波产生部(30)，其是使用半导体元件构成的，并且产生1个或多个微波；波导管(11)，其将所述1个或多个微波引导至所述加热室；周期结构体(20)，其具有在所述波导管内沿第一方向(X方向)周期性地排列的多个凸部(21)，该周期结构体使所述1个或多个微波以表面波模式传播；1个或多个供电部(40)，其与所述微波产生部连接，并且向所述波导管供给所述1个或多个微波；以及控制部(50)，其通过对所述1个或多个微波的频率进行控制，来对加热所述加热对象物的加热区域进行控制。
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公开(公告)号：CN111033127A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201980003765.1
申请日：2019-05-15
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 微波处理装置具备收纳被加热物的加热室、产生微波的振荡部、放射部以及加热器。加热器以形成与加热室的壁面对置的平面的方式与上述壁面隔开规定的距离地配置在加热室内。放射部被配置在加热室内，向加热器与上述壁面之间的空间放射微波，使得微波在加热器与上述壁面之间的空间中传播。根据本方式，能够使用小型的天线来取得广的加热器的设置区域，并且能够扩大微波的放射区域。其结果是，能够同时确保加热器的加热性能和微波的加热性能。
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公开(公告)号：CN113330821B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202080010367.5
申请日：2020-02-03
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： 微波处理装置具有容纳被加热物的加热室(1)、微波产生部(3，4)、供电部(5)、检测部(6)以及控制部(7)。微波产生部输出具有规定的频带内的频率的微波。供电部将微波辐射至加热室。检测部检测来自加热室的反射电力。控制部以在规定的频带中进行频率扫描的方式控制微波产生部。控制部还根据基于微波的频率、反射电力的量和从加热开始起的经过时间的反射电力的频率特性随时间的变化来控制微波产生部。根据本方式，能够一边对被加热物进行加热一边准确地识别烹调的进展。由此，能够适当地结束烹调。
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公开(公告)号：CN115136737A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180014986.6
申请日：2021-01-26
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： 本公开的一个方式的微波处理装置具备加热室、微波产生部、放大部、供电部、检测部、存储部以及控制部。微波产生部产生具有规定的频带中的任意频率的微波。放大部对微波进行放大，并将放大后的微波作为入射电力进行输出。供电部将入射电力向加热室供给。检测部对入射电力和从加热室返回供电部的反射电力进行检测。存储部将入射电力和反射电力与微波的频率和从加热开始起的经过时间相关联地存储。控制部使微波产生部遍及规定的频带地进行频率扫描。控制部基于在频率扫描的期间检测出的入射电力以及反射电力来控制微波产生部以及放大部。根据本方式，能够提高加热的均匀性。
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公开(公告)号：CN114208394A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053599.9
申请日：2020-07-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
摘要： 微波处理装置具备：收纳被加热物(2)的加热室(1)；产生微波的微波产生部(3)；向加热室(1)供给微波的供电部(5)；检测朝向微波产生部(3)的反射功率的检测部(6)；控制微波产生部(3)的控制部(7)；以及存储部(8)。存储部(8)将由检测部(6)检测出的反射功率的量与供给到加热室(1)的微波的频率和从加热开始起的经过时间一起存储。控制部(7)以遍及规定的频带进行频率扫描的方式控制微波产生部(3)，根据基于各频率的反射功率的值随时间的变化，判定为被加热物(2)处于沸腾状态。根据本公开，能够高精度地检测被加热物的沸腾状态，进行适当的烹调。
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公开(公告)号：CN113950868A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202080038744.6
申请日：2020-07-28
申请人： 松下知识产权经营株式会社
IPC分类号： H05B6/68
摘要： 本公开的微波处理装置具备：加热室，其收纳被加热物；微波产生部，其产生规定频带中的频率的微波；放大部，其将由微波产生部产生的微波放大；供电部，其将由放大部放大后的微波供给到加热室；检测部，其检测来自供电部的反射功率；以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率，控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率，将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。
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