公开(公告)号：CN102471491A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080036410.1

申请日：2010-08-19

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 白井昭宏 ,  冈户俊明 ,  霜鸟武司

IPC: C08G77/442

CPC classification number: C08G77/442

Abstract: 本发明旨在提供一种在以对链烯基酚单元和有机硅氧烷单元为必要结构单元、通过嵌段共聚而得到的引入了酚骨架的改性聚硅氧烷化合物的制备方法中不会因分解、缩合而分子量变化、着色等的氯化氢使用条件。在本发明中，在非水溶剂的存在下对于式(I)即X(Y)n〔式中，X为具有式(II)表示的重复单元的聚合物链段，Y为具有式(III)表示的重复单元的聚合物链段，n为1或2)表示的、X和Y的重量比为1/99≤X/Y≤90/10、数均分子量为1,000～100,000的改性聚硅氧烷化合物，在加入含有氯化氢的非水溶液且相对于式(II)表示的重复单元1当量，氯化氢为0.9～1.3当量的条件下进行羟基保护基团脱去处理。

公开(公告)号：CN102471491B

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：CN201080036410.1

申请日：2010-08-19

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 白井昭宏 ,  冈户俊明 ,  霜鸟武司

IPC: C08G77/442

CPC classification number: C08G77/442

Abstract: 本发明旨在提供一种在以对链烯基酚单元和有机硅氧烷单元为必要结构单元、通过嵌段共聚而得到的引入了酚骨架的改性聚硅氧烷化合物的制备方法中不会因分解、缩合而分子量变化、着色等的氯化氢使用条件。在本发明中，在非水溶剂的存在下对于式(I)即X(Y)n〔式中，X为具有式(II)表示的重复单元的聚合物链段，Y为具有式(III)表示的重复单元的聚合物链段，n为1或2)表示的、X和Y的重量比为1/99≤X/Y≤90/10、数均分子量为1,000～100,000的改性聚硅氧烷化合物，在加入含有氯化氢的非水溶液且相对于式(II)表示的重复单元1当量，氯化氢为0.9～1.3当量的条件下进行羟基保护基团脱去处理。

公开(公告)号：CN102958965A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201180030305.1

申请日：2011-06-28

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  三岛豪 ,  立石祐一 ,  冈户俊明

IPC: C08F297/02

CPC classification number: C08F293/005

Abstract: 本发明的目的在于提供一种适用于颜料分散剂等的新型共聚物的制造方法。本发明的制造方法是使用共聚物前体并对其进行加热来制造嵌段共聚物的方法，上述共聚物前体包含嵌段链（A）和嵌段链（B），上述嵌段链（A）包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元，上述嵌段链（B）包含式（I）表示的含有被保护的酸性基团的重复单元和式（II）表示的重复单元，上述嵌段共聚物包含嵌段链（A）和嵌段链（B1），上述嵌段链（B1）包含式（III）表示的含有酸性基团的重复单元和式（II）表示的重复单元。

公开(公告)号：CN102858826A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201180017897.3

申请日：2011-04-08

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  立石祐一 ,  冈户俊明

IPC: C08F293/00

CPC classification number: C08F293/00 ,  C09D153/00 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明的目的在于提供作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物的制造方法。本发明的制造方法如下。通过对含有嵌段链（A）和嵌段链（B）的共聚物前体进行加热，制造含有嵌段链（A）和嵌段链（B1）的嵌段共聚物，所述嵌段链（A）由以下聚合物形成：该聚合物包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基团的重复单元中的至少1种重复单元，所述嵌段链（B）由以下共聚物形成：该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和下述式（I）表示的含有已保护的酸性基团的重复单元，所述嵌段链（B1）由以下共聚物形成：该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和下述式（II）表示的含有酸性基团的重复单元。