公开(公告)号：CN101784575B

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN200880104177.9

申请日：2008-08-29

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 白井昭宏 ,  霜鸟武司 ,  丸毛伸儿 ,  新谷武士

IPC: C08F297/02

CPC classification number: C08F297/02 ,  C08F220/18 ,  C08F297/026 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  C08F222/1006

Abstract: 本发明提供线型聚合物不残存、能够作为照相平版加工的感光性抗蚀剂用材料使用的星形聚合物。在有机溶剂中，在有机碱金属化合物、以及碱金属或碱土类金属的无机盐以下述量存在的条件下，使式(IV)所表示的多官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上进行阴离子聚合反应，由此制造聚合物而形成核部后，从核部的阴离子活性部位通过阴离子聚合使式(I)所表示的单官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上发生聚合而形成臂部，其中，相对于该式(IV)的化合物1摩尔，有机碱金属化合物为0.1～0.99摩尔，相对于该有机碱金属化合物1摩尔，碱金属或碱土类金属的无机盐为0.1～20摩尔。(式中，R表示氢原子等，n表示2或3，A表示用碳原子进行键合的有机基团)。(式中，R1表示氢原子等，R2表示有机基团)。