公开(公告)号：CN102471491A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080036410.1

申请日：2010-08-19

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 白井昭宏 ,  冈户俊明 ,  霜鸟武司

IPC: C08G77/442

CPC classification number: C08G77/442

Abstract: 本发明旨在提供一种在以对链烯基酚单元和有机硅氧烷单元为必要结构单元、通过嵌段共聚而得到的引入了酚骨架的改性聚硅氧烷化合物的制备方法中不会因分解、缩合而分子量变化、着色等的氯化氢使用条件。在本发明中，在非水溶剂的存在下对于式(I)即X(Y)n〔式中，X为具有式(II)表示的重复单元的聚合物链段，Y为具有式(III)表示的重复单元的聚合物链段，n为1或2)表示的、X和Y的重量比为1/99≤X/Y≤90/10、数均分子量为1,000～100,000的改性聚硅氧烷化合物，在加入含有氯化氢的非水溶液且相对于式(II)表示的重复单元1当量，氯化氢为0.9～1.3当量的条件下进行羟基保护基团脱去处理。

公开(公告)号：CN101001887B

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN200580027359.7

申请日：2005-08-11

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  河村洁 ,  白井昭宏

IPC: C08F4/40 ,  C08F12/00 ,  C08F20/00 ,  C09J133/14

Abstract: 本发明提供下述式(I)表示的多分支聚合物及该多分支聚合物的制造方法。式中，A表示具有3个以上分支链的有机基团，Xa表示含有周期表第14～16族的任一原子的连接基团，Y表示结构中可具有活性卤素原子的官能团，Q表示具有由聚合性不饱和键衍生的重复单元的臂部，m1表示从1至上述A所具有的分支链的个数中的任一整数，m2表示上述A所具有的分支链的个数，n1表示0或1以上的整数，Ra表示不参与聚合反应的有机基团。

公开(公告)号：CN101784575A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200880104177.9

申请日：2008-08-29

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 白井昭宏 ,  霜鸟武司 ,  丸毛伸儿 ,  新谷武士

IPC: C08F297/02

CPC classification number: C08F297/02 ,  C08F220/18 ,  C08F297/026 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  C08F222/1006

Abstract: 本发明提供线型聚合物不残存、能够作为照相平版加工的感光性抗蚀剂用材料使用的星形聚合物。在有机溶剂中，在有机碱金属化合物、以及碱金属或碱土类金属的无机盐以下述量存在的条件下，使式(IV)所表示的多官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上进行阴离子聚合反应，由此制造聚合物而形成核部后，从核部的阴离子活性部位通过阴离子聚合使式(I)所表示的单官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上发生聚合而形成臂部，其中，相对于该式(IV)的化合物1摩尔，有机碱金属化合物为0.1～0.99摩尔，相对于该有机碱金属化合物1摩尔，碱金属或碱土类金属的无机盐为0.1～20摩尔。(式中，R表示氢原子等，n表示2或3，A表示用碳原子进行键合的有机基团。)(式中，R1表示氢原子等，R2表示有机基团。)。

公开(公告)号：CN101001887A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580027359.7

申请日：2005-08-11

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 新谷武士 ,  河村洁 ,  白井昭宏

IPC: C08F4/40 ,  C08F12/00 ,  C08F20/00 ,  C09J133/14

Abstract: 本发明提供下述式(I)表示的多分支聚合物及该多分支聚合物的制造方法。式中，A表示具有3个以上分支链的有机基团，Xa表示含有周期表第14～16族的任一原子的连接基团，Y表示结构中可具有活性卤素原子的官能团，Q表示具有由聚合性不饱和键衍生的重复单元的臂部，m1表示从1至上述A所具有的分支链的个数中的任一整数，m2表示上述A所具有的分支链的个数，n1表示0或1以上的整数，Ra表示不参与聚合反应的有机基团。