-
公开(公告)号：CN114106389A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110985886.X
申请日：2021-08-26
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: C08J7/046 , G02B5/30 , C09D133/04 , C08L1/12
Abstract: 提供能抑制或防止显示特性不良的光学薄膜、光学薄膜的制造方法、光学构件和图像显示装置。一种光学薄膜(10)，其特征在于，其在透光性基材(A)(11)上形成有树脂层(B)(12)，构成树脂层(B)(12)的元素包含硅，树脂层(B)(12)中，距离与透光性基材(A)(10)处于相反侧的表面1nm的深度处的原子数满足下述数学式(1)。5.0≤[(nSi/ntotal)×100]≤9.0(1)。所述数学式(1)中，ntotal为碳、氮、氧和硅的原子数的合计，nSi为硅原子数。
Search Results
11
records
(took 0.021 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
