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公开(公告)号：CN108885380A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780019696.4
申请日：2017-03-23
Applicant: 日东电工株式会社
Inventor： 片桐正義 , 藤野望 , 梨木智刚 , 渡边健太
IPC: G02F1/19
Abstract: 氢活性型调光薄膜(1)在高分子薄膜基板(10)上具有调光层(30)和催化剂层(40)，通过氢化和脱氢化切换透明状态和反射状态。通过辊对辊溅射，在高分子薄膜基板上将状态在基于氢化的透明状态与基于脱氢化的反射状态之间可逆地变化的调光层、及促进调光层中的氢化及脱氢化的催化剂层成膜。从调光层的成膜起至催化剂层的成膜为止不进行大气开放地连续实施。
