公开(公告)号：CN118159620A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202280071881.9

申请日：2022-10-21

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 清水阳介 ,  下栗大器 ,  小原裕贵 ,  野中崇弘

IPC: C09J7/38 ,  C09J4/02 ,  C09J201/00

Abstract: 本发明的粘合片(S)为光固化性粘合片，所述光固化性粘合片的表面硬度H2相对于表面硬度H1的比率为1以上且1.5以下，表面硬度H1为通过纳米压痕法测定的所述光固化性粘合片的25℃下的表面硬度，表面硬度H2为自通过所述光固化性粘合片的激光切割而产生的切割端面起向该粘合片的面方向内侧距离该切割端面100μm的部位的、通过纳米压痕法测定的25℃下的表面硬度。

公开(公告)号：CN118159619A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202280071866.4

申请日：2022-10-21

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 下栗大器 ,  清水阳介 ,  小原裕贵 ,  藤原新

IPC: C09J7/38 ,  C09J4/00 ,  C09J11/06 ,  C09J201/00 ,  C09J7/10

Abstract: 本发明的粘合片(10)为包含基础聚合物并且具有光固化性光学粘合片。基础聚合物为光聚合物。粘合片(10)在规定的第一剥离试验中具有粘合力F1，粘合片(10)在规定的第二剥离试验中具有粘合力F2，粘合力F2相对于粘合力F1的比率为0.4以上，粘合力F2为2N/10mm以上且4.5N/10mm以下。

公开(公告)号：CN118159618A

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202280071857.5

申请日：2022-10-21

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 清水阳介 ,  下栗大器 ,  小原裕贵 ,  野中崇弘

IPC: C09J7/38 ,  C09J4/00

Abstract: 本发明的粘合片(S)为包含作为光聚合物的基础聚合物的光固化性粘合片。在下述的剥离试验中，所述粘合片(S)具有1.5N/10mm以上的剥离强度，所述剥离试验为：将粘合片(S)贴合在通过浮法制作的碱玻璃板上，然后在规定条件下对粘合片(S)进行加热加压处理，然后在照射累积光量3000mJ/cm2的条件下对粘合片(S)进行光固化处理，然后在规定条件下将光固化性粘合片(S)从碱玻璃板上剥离。

公开(公告)号：CN117946601A

公开(公告)日：2024-04-30

申请号：CN202311391069.7

申请日：2023-10-24

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 小原裕贵 ,  野中崇弘 ,  山村和广

IPC: C09J7/40 ,  C08J7/04 ,  C08L45/00

Abstract: 本发明涉及剥离衬垫。本发明提供适合于在抑制聚硅氧烷剥离层的厚度的同时确保轻剥离性的剥离衬垫。剥离衬垫(X)具有基材膜(10)和作为聚硅氧烷剥离层的剥离层(20)。基材膜(10)具有第一面(11)和与该第一面(11)相反的一侧的第二面(12)。剥离层(20)配置在基材膜(10)的第一面(11)上。剥离层(20)具有100nm以下的厚度。基材膜(10)的第一面(11)的最大高度粗糙度Rz相对于剥离层(20)的厚度的比率为1以下。

公开(公告)号：CN115335477A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202180024678.1

申请日：2021-03-24

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 小原裕贵 ,  形见普史 ,  野中崇弘

IPC: C09J7/38 ,  C09J4/00 ,  C09J11/06

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种粘合剂片的制造方法和利用该制造方法而得到的粘合剂片，所述制造方法即便在向光固化型粘合剂片中配混紫外线吸收剂的情况下，也不会发生由固化性恶化导致的生产率降低、正面和背面的物性差异或剥离片的剥离力变化等物性变化，容易进行设计。本发明的粘合剂片的制造方法的特征在于，包括如下工序：在支承体S1上形成由透明的光固化型粘合剂基质材料形成的粘合剂层10，对前述粘合剂层10照射紫外线U而使该粘合剂层固化，准备紫外线吸收剂11的溶液12，在前述经固化的粘合剂层10a的一个面涂布前述溶液12，使该溶液12中包含的前述紫外线吸收剂11从前述粘合剂层10a的前述一个面沿着厚度方向进行渗透，使前述粘合剂层10a干燥。