公开(公告)号：CN105518492B

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201480048740.0

申请日：2014-09-10

Applicant: 三井化学株式会社 ,  山本化成株式会社

Inventor： 柿沼直志 ,  桥本俊哉 ,  木下智之 ,  佐佐木浩之

IPC: G02B5/22 ,  C08K5/3417 ,  C08L101/00 ,  G02B1/04 ,  G02C7/00 ,  G02C7/10

Abstract: 本发明的光学材料在以2mm的厚度测得的透过率曲线的波长445nm～470nm处具有透过率的极小值。

公开(公告)号：CN1304486C

公开(公告)日：2007-03-14

申请号：CN03803883.8

申请日：2003-02-14

Applicant: 三井化学株式会社 ,  山本化成株式会社

Inventor： 清野和浩 ,  中川真一 ,  三泽传美 ,  木下智之 ,  高坂明宏 ,  寺尾博 ,  熊谷洋二郎

IPC: C09B47/16 ,  C09B67/22 ,  G11B7/24 ,  B41M5/26

CPC classification number: C09B47/18 ,  C09B47/16 ,  G11B7/248

Abstract: 一种由下面的通式(I)表示的酞菁化合物及其混合物，和一种在其记录层含有该化合物/混合物的的光记录介质。其中，通式(I)中，M是两个氢原子，二价金属原子，单取代基的三价金属原子，二取代的四价金属原子，或氧化金属，和L1，L2，L3，和L4各自独立地是式(a)、(b)、或(c)：在式(a)，式(b)和式(c)中，X表示取代或未取代的烷基，烷氧基，烷硫基，芳氧基，和芳硫基；每个R是独立的氢原子，取代或未取代的碳原子总数为1-6的烷基，取代或未取代的碳原子总数为6-10的芳基；A表示羰基，硫代羰基，砜基，锍化物基，或碳亚氨基；Y表示金属化合物残基；Z独立的表示氢原子，硝基，或卤素原子；以及L1-L4中的至少一个是式(a)或(b)。