公开(公告)号：CN115868048A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202180050228.X

申请日：2021-11-24

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 李殷受 ,  李瞳熏 ,  朴重华 ,  李蕙松

IPC: H01M8/1053

Abstract: 公开了一种聚合物电解质膜和包括该聚合物电解质膜的膜‑电极组件，所述聚合物电解质膜具有优异的机械性能而在如离子电导率的性能方面不劣化，以保证制造具有湿/干循环为30，000次以上的这种高耐久性的膜‑电极组件，所述湿/干循环根据NEDO方案的加速耐久性试验方法测量。本发明的聚合物电解质膜包括：具有多个孔隙的多孔载体；和包含填充所述孔隙的离聚物的复合层，其中，所述聚合物电解质膜的穿刺初始应变(IS)与该聚合物电解质膜的穿刺最终应变(FS)的比例(IS/FS)为0.4至1.0。

公开(公告)号：CN114730901A

公开(公告)日：2022-07-08

申请号：CN202080079510.6

申请日：2020-12-23

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 李殷受 ,  李瞳熏 ,  金娜玲 ,  朴重华 ,  李蕙松

IPC: H01M8/1067

Abstract: 本公开涉及：一种聚合物电解质膜，其可以保证制造具有优异的机械性能而诸如离子电导率的性能不劣化的膜‑电极组件，并由此该膜‑电极组件具有足够高的耐久性以实现根据NEDO方案测量的至少30,000次湿/干循环；包括所述聚合物电解质膜的膜‑电极组件；和测量所述膜‑电极组件的耐久性的方法。根据本发明的聚合物电解质膜包括复合层，该复合层包括：具有多个孔隙的多孔载体；和填充所述孔隙的离聚物，并且所述聚合物电解质膜的MD内部撕裂强度为150N/mm以上，TD内部撕裂强度为150N/mm以上，穿刺初始应变为8％以下，穿刺最终应变为10％以下。

公开(公告)号：CN114730901B

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202080079510.6

申请日：2020-12-23

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 李殷受 ,  李瞳熏 ,  金娜玲 ,  朴重华 ,  李蕙松

IPC: H01M8/1067 ,  H01M8/1018 ,  H01M8/1004 ,  H01M8/1058 ,  H01M8/1053

Abstract: 本公开涉及：一种聚合物电解质膜，其可以保证制造具有优异的机械性能而诸如离子电导率的性能不劣化的膜‑电极组件，并由此该膜‑电极组件具有足够高的耐久性以实现根据NEDO方案测量的至少30,000次湿/干循环；包括所述聚合物电解质膜的膜‑电极组件；和测量所述膜‑电极组件的耐久性的方法。根据本发明的聚合物电解质膜包括复合层，该复合层包括：具有多个孔隙的多孔载体；和填充所述孔隙的离聚物，并且所述聚合物电解质膜的MD内部撕裂强度为150N/mm以上，TD内部撕裂强度为150N/mm以上，穿刺初始应变为8％以下，穿刺最终应变为10％以下。

公开(公告)号：CN118216025A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202280074940.8

申请日：2022-11-16

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 朴重华 ,  李瞳熏 ,  宋金锡 ,  尹盛炫 ,  廉承辑 ,  吴昌勋 ,  李蕙松 ,  李殷受

IPC: H01M8/1051 ,  H01M8/1058 ,  H01M8/1004

Abstract: 本公开涉及一种包括离子导体的聚合物电解质膜，其中所述聚合物电解质膜包含抗氧化剂释放材料。

公开(公告)号：CN115104207A

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN202080090131.7

申请日：2020-12-23

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 朴重华 ,  李瞳熏 ,  金娜玲 ,  李殷受 ,  李蕙松

IPC: H01M8/1048 ,  H01M8/1058 ,  H01M8/1081 ,  H01M8/18 ,  H01M8/1018

Abstract: 本申请公开了一种具有高柔韧性、高离子电导率和优异的机械耐久性的聚合物电解质膜；制造该聚合物电解质膜的方法；和包括该聚合物电解质膜的电化学装置。本发明的聚合物电解质膜包含聚合物电解质材料，其中，所述聚合物电解质材料包括：具有离子交换基团的离子导体；和有机化合物，该有机化合物通过离子键或氢键与所述离子交换基团结合，从而使所述聚合物电解质材料能够具有离子交联结构或氢键交联结构。

公开(公告)号：CN114730900A

公开(公告)日：2022-07-08

申请号：CN202180006878.4

申请日：2021-09-17

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 李殷受 ,  李瞳熏 ,  金娜玲 ,  朴重华 ,  李蕙松

IPC: H01M8/1053 ,  H01M8/1058 ,  H01M8/1039 ,  H01M8/1067 ,  H01M8/1018

Abstract: 本公开提供一种具有改善的化学或机械耐久性的聚合物电解质膜。本公开涉及一种聚合物电解质膜，根据本公开的聚合物电解质膜包括多孔载体和包含填充在所述多孔载体中的第一离聚物的复合层，其中，所述聚合物电解质膜包括具有第一耐久性的第一段和具有第二耐久性的第二段，并且所述第一耐久性高于所述第二耐久性。

公开(公告)号：CN114450831A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080068478.1

申请日：2020-09-29

Applicant: 可隆工业株式会社

Inventor： 金娜玲 ,  李瞳熏 ,  李殷受 ,  朴重华 ,  廉承辑 ,  吴昌勋 ,  李蕙松

IPC: H01M8/1018 ,  H01M8/1039 ,  H01M8/1067 ,  H01M8/1053 ,  H01M8/1004 ,  H01M8/1048 ,  H01M8/1025 ,  C08L27/18

Abstract: 公开了一种离聚物分散体，其含有高含量的离聚物固体的同时具有高分散稳定性，从而优化了聚合物电解质膜中的离聚物形态，使得聚合物电解质膜的离子电导率和耐久性均得到提高；公开了一种离聚物分散体的制备方法；以及一种使用该离聚物分散体的制备方法制备的聚合物电解质膜。