聚合物电解质膜和包括该聚合物电解质膜的膜-电极组件

    公开(公告)号:CN115868048A

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN202180050228.X

    申请日:2021-11-24

    Abstract: 公开了一种聚合物电解质膜和包括该聚合物电解质膜的膜‑电极组件,所述聚合物电解质膜具有优异的机械性能而在如离子电导率的性能方面不劣化,以保证制造具有湿/干循环为30,000次以上的这种高耐久性的膜‑电极组件,所述湿/干循环根据NEDO方案的加速耐久性试验方法测量。本发明的聚合物电解质膜包括:具有多个孔隙的多孔载体;和包含填充所述孔隙的离聚物的复合层,其中,所述聚合物电解质膜的穿刺初始应变(IS)与该聚合物电解质膜的穿刺最终应变(FS)的比例(IS/FS)为0.4至1.0。

    聚合物电解质膜、包括其的膜-电极组件和测量其耐久性的方法

    公开(公告)号:CN114730901A

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202080079510.6

    申请日:2020-12-23

    Abstract: 本公开涉及:一种聚合物电解质膜,其可以保证制造具有优异的机械性能而诸如离子电导率的性能不劣化的膜‑电极组件,并由此该膜‑电极组件具有足够高的耐久性以实现根据NEDO方案测量的至少30,000次湿/干循环;包括所述聚合物电解质膜的膜‑电极组件;和测量所述膜‑电极组件的耐久性的方法。根据本发明的聚合物电解质膜包括复合层,该复合层包括:具有多个孔隙的多孔载体;和填充所述孔隙的离聚物,并且所述聚合物电解质膜的MD内部撕裂强度为150N/mm以上,TD内部撕裂强度为150N/mm以上,穿刺初始应变为8%以下,穿刺最终应变为10%以下。

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