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公开(公告)号：CN107526243B
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201710236723.5
申请日：2017-04-12
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
IPC: G03B21/20
Abstract: 本发明提供一种光源装置，其特征在于，具有：半导体发光元件；以及旋转镜装置，其在一面形成有截面呈凹凸的波形状的镜面，并在另一面连接有马达的旋转轴，上述旋转镜装置配置为利用上述镜面反射来自上述半导体发光元件的射出光。
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公开(公告)号：CN106918979A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611113723.8
申请日：2016-12-07
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
IPC: G03B21/20
Abstract: 一种投影装置，包括：光源，由激光发光元件构成；第1扩散板，来自所述光源的出射光入射到该第1扩散板；微镜阵列，在所述第1扩散板透射后的光入射到该微镜阵列；以及第2扩散板，使在所述微镜阵列透射后的光扩散。
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公开(公告)号：CN106918978A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201610998521.X
申请日：2016-11-14
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
IPC: G03B21/20
Abstract: 一种光源装置和投影装置，提供降低光源光的亮度不均。该光源装置包括：固体发光元件，出射光源光；扩散板，使所述光源光扩散；以及导光装置，使从所述扩散板出射的出射光扩散；所述扩散板为，在与所述光源光的入射侧的面相反的出射侧的面的第一方向、和与所述第一方向大致正交的第二方向中的任意一个方向上，具有多个弧状的扩散单元，所述第一方向和所述第二方向的扩散角度不同。
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公开(公告)号：CN104865782B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201510083785.8
申请日：2015-02-16
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
CPC classification number: G03B21/204 , F21Y2113/13 , F21Y2115/10 , F21Y2115/30 , G03B21/2066 , G03B21/208 , G03B33/12 , H04N9/3182
Abstract: 一种投影仪，包括：光源装置，具有微镜阵列、第一光源和第二光源，所述微镜阵列具有第一区域、和微镜的排列节距比该第一区域大的第二区域；所述第一光源将射出光向所述第一区域入射；所述第二光源将射出光向所述第一区域及所述第二区域入射；所述微镜阵列通过各微镜使来自所述第一光源及所述第二光源的所述射出光扩散；聚光透镜，将由所述微镜阵列扩散后的各扩散光聚光；显示元件，被照射由所述聚光透镜聚光后的各扩散光并生成投影光；投影光学系统，对由所述显示元件生成的投影光进行导光；以及控制部，进行所述显示元件和所述光源装置的控制。
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公开(公告)号：CN103324014A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310123436.5
申请日：2013-03-21
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
CPC classification number: F21V13/08 , G03B21/2013 , G03B21/204 , G03B33/08
Abstract: 光源装置包括第1～第3光源、荧光体以及二向色镜。所述二向色镜构成为：从上述第1光源射出的激励光在上述二向色镜通过并照射到上述荧光体，从上述第2光源射出的第1波段光的光在上述二向色镜通过并在规定的射出方向射出，从上述荧光体射出的上述发光光在上述二向色镜反射通过并在上述规定的射出方向射出，并且来自上述第3光源的上述第2波段的光的至少一部分不射入上述二向色镜而在外侧通过并在上述规定的射出方向射出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101839463A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010143291.1
申请日：2010-03-17
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
CPC classification number: G03B21/204 , G03B21/16 , H04N9/315 , H04N9/3161
Abstract: 投影机具备光源装置、显示元件、光学系统、控制光源装置和显示元件的投影机控制构件等。光源装置由各自发出波长域不同的光的三个发光装置构成，该发光装置具备光源、配置了接收从该光源照射的光并发出规定的波长域光的荧光体的层的旋转体、使该旋转体旋转的驱动源、可变控制旋转体的转速的转速控制构件、以及测定旋转体的温度的温度测定构件，转速控制构件构成为能够根据来自温度测定构件的信息，可变控制旋转体的转速，以将旋转体的温度保持为规定值。提供一种能够将荧光体的发光效率保持为最佳状态的发光装置、由该发光装置构成的光源装置、以及具备该光源装置的投影机。
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公开(公告)号：CN110989277A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201910899155.6
申请日：2019-09-23
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
IPC: G03B21/20
Abstract: 本发明涉及光学轮、含有该光学轮的光源装置以及含有该光源装置的投影装置。一种光学轮，其特征在于，包括：荧光体发光区域，其使第一波段光自一侧入射，并使被所述第一波段光激发的荧光自另一侧射出；以及调整扩散光学区域，其具有使所述第一波段光自所述一侧入射并使所述第一波段光的扩散特性在径向和周向上不同的调整部。
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公开(公告)号：CN105223765A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510764917.3
申请日：2013-12-19
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
IPC: G03B21/20
CPC classification number: G03B21/208 , G03B21/2033
Abstract: 本发明的光源装置及投影仪，为了减小激光的干涉条纹的厚度，特征在于：①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性；或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置；或者③使准直透镜的聚光度分别不同。
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公开(公告)号：CN105223764A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510764890.8
申请日：2013-12-19
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
IPC: G03B21/20
CPC classification number: G03B21/208 , G03B21/2033
Abstract: 本发明的光源装置及投影仪，为了减小激光的干涉条纹的厚度，特征在于：①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性；或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置；或者③使准直透镜的聚光度分别不同。
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公开(公告)号：CN102736384B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201210146862.6
申请日：2012-03-30
Applicant: 卡西欧计算机株式会社
Inventor： 黑崎秀将
CPC classification number: G03B21/204 , G03B21/2013 , G03B21/208
Abstract: 激励光照射装置，具备：配置为平面状的多个激励光源；与各个激励光源对应的多个准直透镜；作为保持体的透镜保持体，保持多个激励光源和多个准直透镜；以及光源保持体。将从多个激励光源经由多个准直透镜而射出的光聚光到荧光体层上，保持体以使准直透镜的光轴和激励光源的光轴平行地偏移的方式保持准直透镜和激励光源，并且规定准直透镜的光轴和激励光源的光轴之间的移动量，以使得激励光聚光到荧光体层上的规定区域，来自激励光源的光利用准直透镜进行折射。
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