公开(公告)号：CN103360185A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310104655.9

申请日：2013-03-28

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 郭学永 ,  张朴 ,  焦清介 ,  张静元 ,  杨毅

IPC: C06B21/00

Abstract: 本发明提供一种CL-20颗粒圆滑处理装置和方法。装置包括圆滑研磨设备、搅拌陈化设备；圆滑研磨腔的出料口与搅拌陈化腔的进料口通过管线相连；搅拌陈化腔的出料口与圆滑研磨腔的进料口通过管线相连，该管线上靠近搅拌陈化腔的位置设置有出料阀，其后管线上设置有物料循环泵。将原料CL-20与研磨溶剂液混合均匀的浆料输入到上述圆滑处理装置中并在圆滑研磨腔和搅拌陈化腔之间进行循环处理，经过充分研磨和陈化的CL-20浆料排出后经过真空抽滤、干燥，最终得到颗粒圆滑的CL-20产品。本发明有效地结合了湿法搅拌磨和溶剂溶解的方法，该装置和方法操作简单，安全性高，生产效率高，可实现对高机械感度CL-20颗粒的圆滑处理。

公开(公告)号：CN106045798A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610700850.1

申请日：2016-08-22

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 焦清介 ,  黄阳飞 ,  郭学永 ,  张朴 ,  魏华

IPC: C06B25/36 ,  C06B23/00

CPC classification number: C06B25/36 ,  C06B23/002

Abstract: 本发明涉及一种抑制ε‑CL‑20在混合体系中发生晶变的方法，属于含能材料领域。本方法将候选组分与ε‑CL‑20充分接触组成二元体系，通过原位XRD筛选出能够有效抑制ε‑CL‑20发生晶变的晶变抑制剂；将晶变抑制剂包覆在ε‑CL‑20表面；制备出的ε‑CL‑20和晶变抑制剂复合物加入炸药配方中制备样品，发现制备的样品初始晶变温度明显提高。证明经原位XRD测试筛选得到晶变抑制剂可有效抑制ε‑CL‑20在混合体系中发生晶变。该方法具有：操作简单，条件温和，安全可靠，并容易实现产业化等优点。

公开(公告)号：CN105732531A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201610070704.5

申请日：2016-02-02

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 郭学永 ,  张静元 ,  焦清介 ,  张朴 ,  崔超 ,  卢佳骥 ,  张洪垒 ,  李航

IPC: C07D257/02

CPC classification number: C07D257/02 ,  C07B2200/13

Abstract: 本发明公开了一种对HMX晶体形貌进行修复/修饰的方法，该方法包括：在搅拌条件下，使HMX晶体与溶剂?反溶剂重结晶法制得的HMX重结晶母液或其稀释液进行混合。本发明的方法能够制备圆滑的HMX晶体，该晶体中HMX含量≥99.9％，晶体密度≥1.90g/cm3，通过仪器观察其微观结构可见，其外观无尖锐棱角，晶体短长轴比≥0.8。因此，由本发明的方法制备的HMX晶体具有流散性好、感度低等特点。而且，本发明的方法反应条件温和，并且使用的是结晶母液或其稀释液，具有制备简单以及成本低廉的特点。

公开(公告)号：CN103351459B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201310115662.9

申请日：2013-04-03

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 朱艳丽 ,  焦清介 ,  郭学永 ,  崔庆忠 ,  任慧 ,  臧充光 ,  李楠 ,  张朴 ,  王静思

IPC: C08G18/69 ,  C08G18/66 ,  C08G18/48 ,  C08G18/32 ,  C09J175/08 ,  C09J175/14 ,  C09J11/06

Abstract: 本发明公开了一种酯类增塑的粘合剂及制备方法。所述粘合剂包括固化后的以下组分：端羟基入高分子预聚物100重量份；酯类增塑剂100～25重量份；交联剂0～10重量份；键合剂0.1～1.5重量份；固化剂5～15重量份；固化催化剂0.01～0.1重量份。所述方法包括：所述组分按所述用量进行固化反应后制得所述酯类增塑的粘合剂。本发明制备的酯类增塑的粘合剂交联网络结构可控、制备方法简单、浇注工艺和力学性能优异、适用期长。

公开(公告)号：CN102898429B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201210348253.9

申请日：2012-09-18

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 郭学永 ,  焦清介 ,  姜夏冰 ,  张朴 ,  朱艳丽

IPC: C07D487/22

Abstract: 本发明公开了一种控制ε-HNIW晶形和窄粒度分布的重结晶方法，包括（1）将助剂溶解在反溶剂中；在结晶器内将HNIW溶于有机溶剂中制得饱和溶液，（2）将结晶器置于水浴中，边搅拌边向结晶器内滴加反溶剂；（3）继续搅拌至出现结晶；（4）过滤，洗涤、干燥；本发明通过溶剂-反溶剂重结晶控制HNIW的粒径和晶形，室温制备，并且不用筛分即可获得不同粒径、晶形规整、具有窄粒度分布的高品质ε型HNIW。避免使用机械筛分和研磨含能材料进行粒度分级存在的安全隐患，选用低度或无毒溶剂，并可以回收利用，降低了成本，同时常温重结晶工艺具有操作简单、安全可靠、绿色高效等优点。

公开(公告)号：CN203409639U

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201320148248.3

申请日：2013-03-28

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 焦清介 ,  郭学永 ,  张朴 ,  张静元 ,  杨毅

IPC: B24B31/00

Abstract: 本实用新型提供一种CL-20颗粒圆滑处理装置。装置包括圆滑研磨设备、搅拌陈化设备；圆滑研磨腔的出料口与搅拌陈化腔的进料口通过管线相连；搅拌陈化腔的出料口与圆滑研磨腔的进料口通过管线相连，该管线上靠近搅拌陈化腔的位置设置有出料阀，其后管线上设置有物料循环泵。将原料CL-20与研磨溶剂液混合均匀的浆料输入到上述圆滑处理装置中并在圆滑研磨腔和搅拌陈化腔之间进行循环处理，经过充分研磨和陈化的CL-20浆料排出后经过真空抽滤、干燥，最终得到颗粒圆滑的CL-20产品。本实用新型的装置操作简单，安全性高，生产效率高，可实现对高机械感度CL-20颗粒的有效圆滑处理。

公开(公告)号：CN203018141U

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201220673118.7

申请日：2012-12-07

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 郭学永 ,  焦清介 ,  张朴 ,  朱艳丽 ,  杨毅

IPC: B02C17/16 ,  B02C17/18 ,  B01F13/10

Abstract: 本实用新型提供一种超细CL-20的制备装置。包括研磨机主机、与球磨机主机相连的混合器和物料泵。球磨机主机包括带搅拌的研磨腔、研磨腔上盖、研磨球；研磨腔上盖紧固于研磨腔上方并设置密封，其设有进料口，研磨腔底部设有出料口，研磨球置于研磨腔内。混合器内设有搅拌，混合器上设置有出料口和循环进料口，混合器出料口与球磨机主机的进料口管线相连，研磨腔出料口与混合器的循环进料口管线相连，该管线上靠近研磨腔的位置设置有出料阀，之后设置有物料泵。该制备装置解决了目前含能材料细化过程中存在的工艺复杂、产量低、污染重等问题。操作简单，安全性高，生产效率高，可广泛应用于各种含能材料的细化。