公开(公告)号：CN215866486U

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202122184306.5

申请日：2021-09-10

Applicant: 北京市科学技术研究院分析测试研究所(北京市理化分析测试中心)

Inventor： 闫志勇 ,  邓平晔 ,  李盼 ,  范文浩 ,  杨超杰

IPC: G01N27/28

Abstract: 本实用新型公开一种卧式电解池，包括普通玻璃制成的电解池本体，所述电解池本体为卧式圆筒形结构，所述卧式圆筒形结构的一端可拆卸设置有石英玻璃端盖，通过所述石英玻璃端盖透射的光线能够沿着所述卧式圆筒形结构的轴向照射到所述卧式圆筒形结构的内部，所述卧式圆筒形结构的侧壁设置有支腿以及若干电极插入口；本实用新型将电解池本体设置为卧式圆筒形结构的形式，并在卧式圆筒形结构的一端可拆卸设置有石英玻璃端盖，使得通过石英玻璃端盖透射的光线能够沿着轴向照射到卧式圆筒形结构的内部，从而在一定透光面积和透光率的基础上能够显著提高光源照射到卧式电解池内部的区域，并且，石英玻璃端盖在拆卸后能够便于对卧式电解池内部进行清理。

公开(公告)号：CN220994018U

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202322553168.2

申请日：2023-09-20

Applicant: 北京市科学技术研究院分析测试研究所(北京市理化分析测试中心)

Inventor： 闫志勇 ,  陈婧瑶 ,  杨超杰 ,  黎爽 ,  杨颖 ,  范文浩 ,  邓平晔

IPC: B24B29/00 ,  B24B41/06 ,  B24B47/12 ,  B24B47/22 ,  B24B51/00 ,  B24B41/00

Abstract: 本实用新型公开了一种可预设轨迹的自动批量研磨、抛光装置，属于研磨抛光技术领域，其包括支撑板和支撑架，所述支撑板与所述支撑架的一端固定连接；抛光组件，所述抛光组件设置在所述支撑板上，用于对样品进行抛光；夹持组件，所述夹持组件设置在所述抛光组件的上方，并与所述支撑架远离所述支撑板的一端固定连接，用于夹持样品；智能控制终端，所述智能控制终端设置在所述支撑架上，用于控制抛光组件与研磨组件对样品进行研磨抛光。本实用新型大大减少重复的人工劳动成本，提升研磨效率，同时还能确保研磨结果的一致性。