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公开(公告)号：CN114930247A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008407.7
申请日：2021-01-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜组件、防护薄膜组件的检查方法、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示板的制造方法，所述防护薄膜框架为具有设置防护膜的上端面(13)以及面向光掩模的下端面(14)的框状的防护薄膜框架(1)，且所述防护薄膜框架(1)的至少内侧面(11)处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为20％以下。本发明可提供一种防护薄膜框架、使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件及所述防护薄膜组件的检查方法，所述防护薄膜框架通过降低防护薄膜框架内表面(11)对于检查光的反射率，而可尽可能地抑制来自所述框架的散射光，提高异物检查性，并且通过降低仅对于检查光的波长的反射率，而防护薄膜框架的着色等的限制少。
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公开(公告)号：CN111522196A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010078998.2
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的是提供具足够的通气能力，防尘薄膜框架的加工性佳，且对光掩膜的贴附性良好的防尘薄膜框架及防尘薄膜组件。本发明提供一种防尘薄膜框架及防尘薄膜组件，该防尘薄膜框架具有设置防尘薄膜的上端面及面向光掩膜的下端面的框状防尘薄膜框架，并从上端面的外侧面往内侧面设有缺口部，该防尘薄膜组件包含有该防尘薄膜框架作为其构成要件。
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公开(公告)号：CN111258179A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201911218263.9
申请日：2019-12-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防尘薄膜组件，能够尽可能地减少从防尘薄膜组件整体产生的释放气体，可防止该释放气体成分吸附于曝光装置内的反射镜或掩膜的表面而使反射率降低的情形、释放气体成分吸附于装置内壁面而产生污染的情形。本发明的防尘薄膜组件，其在23℃、1×10-3Pa以下的环境气体下搁置10分钟后，该防尘薄膜组件的真空时气体释出量为：就水系气体而言，每1个防尘薄膜组件的水系气体释出量为1×10-3Pa·L/s以下；就测定质量数的范围为45～100amu的烃系气体而言，每1个防尘薄膜组件的烃系气体释出量为1×10-5Pa·L/s以下，就测定质量数的范围为101～200amu的烃系气体而言，每1个防尘薄膜组件的烃系气体释出量为4×10-7Pa·L/s以下。
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公开(公告)号：CN215416267U
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202120107916.2
申请日：2021-01-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种防护薄膜框架及使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光系统、以及半导体或液晶显示板的制造系统，所述防护薄膜框架通过将对于检查光的框架内表面的反射率设置得低，而可尽可能地抑制来自框架的散射光，可提高异物检查性，并且通过降低仅对于检查光的波长的反射率，而框架的着色等的限制少。所述防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，且其中：所述防护薄膜框架的至少内侧面处的光源波长500nm～1000nm的最小反射率为20％以下；一种防护薄膜组件，其中：包括所述防护薄膜框架作为结构要素。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN215932363U
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202121082154.1
申请日：2021-05-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本实用新型的课题在于提供一种减少附着于防护薄膜框架的表面的异物落下的防护薄膜框架、及使用所述框架的防护薄膜。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为框状的防护薄膜框架，包括防护薄膜框架本体、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层；以及提供一种防护薄膜，其包括所述防护薄膜框架、及经由粘合剂或粘接剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面的防护薄膜膜片；且提供一种带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。
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公开(公告)号：CN215449882U
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202120288860.5
申请日：2021-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种防止源自框架的散射光、且附着于框架表面的异物检查容易的防护薄膜框架及组件、曝光原版、装置与系统及制造系统。一种防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，在所述防护薄膜框架的内侧面具有粗糙度曲线的峭度(Rku)为3.0以下的区域；以及一种防护薄膜组件，包括所述防护薄膜框架作为结构要素。
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公开(公告)号：CN217821248U
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202220827183.4
申请日：2022-04-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 一种即便在无法涂布防护薄膜用粘接剂的场所也可实现防护膜的组装的防护膜框架层叠体及制造系统、包装物以及运输系统，在具有上端面及下端面的四边形框状防护膜框架的所述上端面具有第一粘接剂层，以第一保护片覆盖所述第一粘接剂层，并且在所述下端面具有第二粘接剂层，以第二保护片覆盖所述第二粘接剂层；一种包装物，利用具有载置防护膜框架层叠体的托盘部及盖部的容器，对所述防护膜框架层叠体进行包装而成；以及一种防护膜的制造系统，将所述防护膜框架层叠体的所述第一保护片剥下，在露出的所述第一粘接剂层设置另行准备的防护薄膜。
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公开(公告)号：CN216118382U
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202121151382.X
申请日：2021-05-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种使用防护薄膜框架的防护薄膜，其在真空下进行EUV曝光时，耐受自大气压到真空的压力变化而不会产生防护薄膜膜片的破损，而且，框架的加工性良好且在剥离防护薄膜时框架不会破损。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为具有设置防护薄膜膜片的上端面及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，所述防护薄膜框架为金属制，并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面或下端面的切口部，每1mm3体积的防护薄膜的内空间中，内侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上，且提供一种防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。
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公开(公告)号：CN215986893U
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202121003533.7
申请日：2021-05-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/62
Abstract: 本实用新型的目的在于提供一种在EUV曝光中对氢自由基充分具有耐性的防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、装置与系统、半导体及液晶显示板的制造系统。本实用新型提供的防护薄膜框架，其为EUV曝光用的防护薄膜框架，在所述防护薄膜框架至少设置一个通气部，且在所述通气部内安装具有被树脂被覆的多孔质膜的过滤器；提供一种防护薄膜，在所述防护薄膜框架张设防护膜；提供一种带防护薄膜的曝光原版，其为EUV曝光用的带防护薄膜的曝光原版，在曝光原版装设有所述防护薄膜；且提供一种曝光装置、曝光系统、半导体的制造系统及液晶显示板的制造系统。
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