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公开(公告)号:CN115141105A
公开(公告)日:2022-10-04
申请号:CN202210311924.8
申请日:2022-03-28
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
IPC: C07C211/54 , C07C209/10 , C07C209/84 , C09K11/06 , H01L51/50 , H01L51/54
Abstract: 本发明要解决的课题在于提供显示能够应对溶液工艺的高溶解性、并且作为电荷传输材料有用的有机半导体化合物,所述电荷传输材料通过电荷迁移率优异而能够实现显示良好电气特性的有机电子设备。一种包含下述通式(1)、通式(2)及通式(3)所示的对联苯化合物衍生物的混合物。【化1】;【化2】;【化3】
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公开(公告)号:CN101371200B
公开(公告)日:2013-04-10
申请号:CN200680033164.8
申请日:2006-09-08
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
CPC classification number: G03G5/0614 , G03G5/0517 , G03G5/0605 , G03G5/0616
Abstract: 本发明的目的是提供不损害电子照相特性(例如充电电势和残留电势)的,并且还具有优良的重复稳定性的电子照相感光体。本发明涉及一种包含导电支撑体的电子照相感光体,所述导电支撑体具有在其上的包含下列通式(1)代表的锆化合物和一种或多种分子中具有芳氨基的电荷传导剂的感光层。
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公开(公告)号:CN102686554A
公开(公告)日:2012-09-19
申请号:CN201080060121.5
申请日:2010-11-04
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
IPC: C07C211/58 , G03G5/06
CPC classification number: C07C211/58 , G03G5/0614
Abstract: 公开了一种新型化合物,其具有高载流子迁移率,并用作电荷输送剂,所述电荷输送剂不仅能够稳定形成感光层而在感光层形成期间不经受晶体沉积或小孔形成,而且还能够形成具有高感光度和低残余电位的电子照相用有机感光体。具体公开了由通式(1)表示的二苯基萘胺衍生物。(式中,R1-R3各自表示烷基;k表示0-3的整数;j表示0-4的整数;l表示0-6的整数;以及X1和X2各自表示具有至少一个烯键式不饱和键的烃基。)
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公开(公告)号:CN1956945B
公开(公告)日:2010-09-22
申请号:CN200580016678.8
申请日:2005-05-24
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
IPC: C07C211/54 , C07C211/60 , G03G5/06
CPC classification number: C07C217/84 , C07C211/60 , C07C2602/08 , G03G5/0605 , G03G5/0607 , G03G5/0614
Abstract: 本发明公开了对三联苯化合物和使用该化合物的电子照相用感光体,所述对三联苯化合物由下列通式(1)和(2)表示。根据本发明,提供了具有改善的在有机溶剂中的溶解性的电荷输送剂,和漂移迁移率优异并具有高灵敏度和高耐久性的电子照相用感光体。
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公开(公告)号:CN101371200A
公开(公告)日:2009-02-18
申请号:CN200680033164.8
申请日:2006-09-08
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
CPC classification number: G03G5/0614 , G03G5/0517 , G03G5/0605 , G03G5/0616
Abstract: 本发明的目的是提供不损害电子照相特性(例如充电电势和残留电势)的,并且还具有优良的重复稳定性的电子照相感光体。本发明涉及一种包含导电支撑体的电子照相感光体,所述导电支撑体具有在其上的包含通式(1)代表的锆化合物和一种或多种分子中具有芳氨基的电荷传导剂的感光层。
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公开(公告)号:CN101065711A
公开(公告)日:2007-10-31
申请号:CN200580040360.3
申请日:2005-11-21
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
CPC classification number: G03G5/0517 , G03G5/051 , G03G5/0514 , G03G5/0521 , G03G5/0614 , G03G5/0633 , G03G5/0679 , G03G5/0685
Abstract: 本发明的目的是提供不损害如充电电势和残留电势的电子照相特性的,以及重复稳定性也是出色的电子照相感光体。本发明提供包含导电支撑体的电子照相感光体,所述导电支撑体具有在其上的包含特定对三联苯化合物和至少一种添加剂的层。
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公开(公告)号:CN1976896A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200580021542.6
申请日:2005-06-28
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
IPC: C07C249/16 , C07C251/86
CPC classification number: C07C249/16 , C07C241/02 , C07C251/86 , C07C243/22
Abstract: 本发明提供了一种由通式(5)代表的腙化合物的制造方法,其中包括:不将由通式(3)代表的肼化合物从反应器中取出而将所述肼化合物与由通式(4)代表的羰基化合物缩合的步骤。根据本发明,能够以高品质和高收率获得目标腙化合物,而完全不需要将肼化合物从反应器中取出,所述肼化合物是反应中间体,它在结构上不稳定,并且因其毒性(诱变性)而担心威胁到工人的安全。
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公开(公告)号:CN111971347B
公开(公告)日:2023-03-24
申请号:CN201980021997.X
申请日:2019-03-26
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化合物,其由下述通式(1):[R1~R10分别独立地表示‑H、‑SO3‑、‑NO2、可具有取代基的碳原子数0~20的氨基等,M表示Cr原子等,X表示非显色阳离子,k表示1~8的整数,Y表示‑O‑或‑O‑(C=O)‑。]表示,R5为‑NH2或NHCOR5a,并且R5a为烷基,R6为‑NHCO‑Ph,R9为‑SO3‑,和/或,R2或R3为‑CH3。
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公开(公告)号:CN110872454A
公开(公告)日:2020-03-10
申请号:CN201910814409.X
申请日:2019-08-30
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
IPC: C09B69/02 , C09B19/00 , C09B44/16 , C09B53/00 , C09B44/06 , A61K8/49 , A61K8/44 , A61K8/31 , A61K8/41 , A61Q5/10
Abstract: 本发明提供一种染发能力优异、水溶性和发泡性良好、清洗时和干燥后保持毛发的顺滑且耐汗性优异、抑制染色毛发褪色的染发用染料及其染发用组合物,所述化合物由下述通式(1)表示,化1:(X)(Z) (1),式中,X表示至少含有一个可具有取代基的碳原子数为0~20的氨基酸的碱性染料,Z表示含有氨基酸的非显色阴离子。
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公开(公告)号:CN101885685B
公开(公告)日:2012-08-22
申请号:CN201010236288.4
申请日:2005-05-24
Applicant: 保土谷化学工业株式会社
IPC: C07C211/60 , C07C217/92 , G03G5/06
CPC classification number: C07C217/84 , C07C211/60 , C07C2602/08 , G03G5/0605 , G03G5/0607 , G03G5/0614
Abstract: 本发明公开了对三联苯化合物和使用该化合物的电子照相用感光体,所述对三联苯化合物由下列通式(1)和(2)表示。根据本发明,提供了具有改善的在有机溶剂中的溶解性的电荷输送剂,和漂移迁移率优异并具有高灵敏度和高耐久性的电子照相用感光体。
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