微量分析芯片
    11.
    发明公开
    微量分析芯片 审中-实审

    公开(公告)号:CN119053854A

    公开(公告)日:2024-11-29

    申请号:CN202380033139.3

    申请日:2023-03-17

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够稳定分析的微量分析芯片。提供一种微量分析芯片,其具有由设置在多孔基材的内部的流路壁包围的流路区域,特征在于流路区域具有第一流路室、第二流路室和连接第一流路室和第二流路室的流路,参比电极设置在第一流路室中,工作电极设置在第二流路室中,并且电解质以流路区域中的试样的行进方向为基准配置在参比电极的上游侧。

    微分析芯片
    12.
    发明公开
    微分析芯片 审中-实审

    公开(公告)号:CN118019973A

    公开(公告)日:2024-05-10

    申请号:CN202280064786.6

    申请日:2022-09-21

    Abstract: 本发明解决的问题是提供一种微分析芯片,其可以稳定地测量离子浓度并且可以在不增大芯片尺寸或延长测量时间的情况下抑制离子从参照电极区域回流到工作电极区域对工作电极的影响。为了解决该问题,提供以下微分析芯片。具体地,在该微分析芯片中:参照电极布置在第一通道室中;样品可溶性离子晶体布置在参照电极的表面上;工作电极布置在第二通道室中;第一通道和第二通道被构造为使得:其中,从样品分配到分配部直到样品到达离子晶体的时间是T1,并且从样品分配到分配部直到样品到达工作电极的时间是T2,T1和T2具有关系T1>T2。

    微分析芯片
    16.
    发明公开
    微分析芯片 审中-实审

    公开(公告)号:CN118043657A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202280064399.2

    申请日:2022-09-21

    Abstract: 本发明解决的问题是提供一种微分析芯片,其可以在不扩大芯片尺寸或增加测量时间的情况下稳定地测量离子浓度。为了解决该问题,提供以下微分析芯片。换言之,所述微分析芯片具有:布置在第一通道室中的参照电极、布置在参照电极表面上的可溶解在样品中的离子晶体以及布置在第二通道室中的工作电极,其中,当作为样品在多孔基材的表面中每单位时间渗透的区域面积的平均面积速度在分配的样品到达参照电极之前被定义为V1时,并且当作为样品在多孔基材的表面中每单位时间渗透的区域面积的平均面积速度在分配的样品到达参照电极之后、充满第一通道室之前被定义为V2时,V1和V2满足关系V1>V2。

    微流路装置及其制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116897287A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202280017372.8

    申请日:2022-02-17

    Abstract: 由于本发明的构成,大量的着色剂在流路壁中存在于多孔基材表面侧,由此提高可视性,并且流路壁内部着色剂的量少,由此抑制着色剂中包含的离子等向分析物的溶出,从而使测量精度提高。一种微流路装置,其中夹在流路壁之间的流路形成在多孔基材的内部,所述微流路装置的特征在于,流路壁具有热塑性树脂和着色剂,并且流路壁中包含的着色剂的存在比在流路壁中的多孔基材表面区域高于流路壁的内部。

    显影装置和处理盒
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107664937B

    公开(公告)日:2021-07-02

    申请号:CN201710626609.3

    申请日:2017-07-28

    Abstract: 本申请涉及一种显影装置,包括:在其表面上承载显影剂的显影剂承载构件;可旋转地支撑显影剂承载构件并且收容显影剂的显影框架构件;和管控构件,其固定到显影框架构件以管控在显影剂承载构件上所承载的显影剂,从显影剂承载构件的旋转方向的下游侧开始,管控构件具有:突出部,其具有设置用以抵接显影剂承载构件的抵接部;连接到突出部且设置用以面向显影剂承载构件的对向表面,其包括设置为自由端部的一个端部且沿着显影剂承载构件的旋转方向位于突出部的下游侧,并且该对向表面是没有反向曲线点的表面,在该表面中,对向表面与显影剂承载构件之间的距离随着远离突出部而保持恒定或减小。本申请还涉及一种处理盒。

    显影剂容纳单元的再制造方法

    公开(公告)号:CN105549360B

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201510705536.8

    申请日:2015-10-27

    Abstract: 这里提供了一种显影剂容纳单元的再制造方法,所述显影剂容纳单元包括挠性容器和框架部件,所述挠性容器设有开口并构造成容纳显影剂,所述框架部件构造成容纳挠性容器,所述再制造方法包括:将显影剂再充装在框架部件和挠性容器之间。还提供了一种显影装置、处理盒以及成像装置的再制造方法。

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