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公开(公告)号:CN103403884A
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:CN201280010022.5
申请日:2012-02-03
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L31/10
CPC classification number: H01L31/035209 , B82Y20/00 , C30B25/183 , C30B29/40 , C30B29/42 , C30B29/68 , H01L31/035236 , H01L31/109 , H01L31/1844 , Y02E10/544 , Y02P70/521
Abstract: 本发明的目的是提供一种光电二极管等,该光电二极管可以在1.5μm至1.8μm的近红外波长范围内具有足够高的灵敏度并且可以具有低暗电流。根据本发明的光电二极管(10)包括:缓冲层(2),其设置为与InP衬底(1)的顶部相邻并与之接触;和吸收层(3),其位于缓冲层上并与之接触。吸收层包括50或更多个对,其中第一半导体层(3a)和第二半导体层(3b)构成一对,第一半导体层(3a)具有0.73eV或更小的带隙能量,第二半导体层(3b)具有比第一半导体层(3a)的带隙能量大的带隙能量。第一半导体层(3a)和第二半导体层(3b)形成应变补偿量子阱结构,并且每层都具有不小于1nm且不大于10nm的厚度。
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公开(公告)号:CN102612758A
公开(公告)日:2012-07-25
申请号:CN201180004431.X
申请日:2011-05-19
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L31/10
CPC classification number: H01L31/035236 , B82Y20/00 , H01L31/03046 , H01L31/105 , H01L31/1844
Abstract: 提供一种半导体器件和光学传感器装置,每个都具有减小的暗电流和向着近红外中的更长波长扩展的探测灵敏度。而且,提供了一种半导体器件的制造方法。该半导体器件50包括:位于InP衬底1上的II型(InGaAs/GaAsSb)MQW结构的吸收层3,和位于MQW结构上的InP接触层5。在MQW结构中,GaAsSb的组分x(%)不小于44%,其厚度z(nm)不小于3nm,且满足z≥-0.4x+24.6。
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