-
公开(公告)号：CN100409044C
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200410100387.4
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
-
公开(公告)号：CN100346181C
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN02830026.2
申请日：2002-12-12
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: B32B27/306 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B2038/0028 , B32B2307/42 , B32B2309/02 , B32B2329/04 , B32B2457/202 , C08J7/065 , C08J2329/04 , G02B5/3033
Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附并取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液与氧之间的接触被抑制。所生产的偏振片具有高对比度。
-
公开(公告)号：CN1708701A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN02830025.4
申请日：2002-12-12
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: B29D11/00 , B29C55/06 , B29D11/00634 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3033
Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附和取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液在450纳米波长下具有0.13或更小的吸收率。所生产的偏振片具有高对比度。
-
公开(公告)号：CN1629660A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN200410100386.X
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色，而且，在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸，(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率，或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率，而进行单轴拉伸。
-
公开(公告)号：CN100472250C
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200510009407.1
申请日：2005-02-04
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 一种偏光膜的制造方法，能制造较少瑕疵或皱纹且无折痕的偏光膜。其特征为，于处理PVA(聚乙烯醇)系膜并制造偏光膜的方法中，将加宽辊用于处理液中，并将加宽辊配置在能使最大加宽量β(以算式(1)求得)大于膜与加宽辊接触时，膜在宽方向的膨胀量γ(以算式(2)求得)的位置上，或使用能使β大于γ的形状的加宽辊。β＝B1×α×r/R .......(1)γ＝0.2055×B1×{exp(-0.0273×θ1)-exp(-0.0273×θ)} ......(2)(式中，B1为与辊接触的膜宽，α为接触角，r为辊的半径，R为辊的曲率半径，θ为膜离开辊之前在液中的行进时间，θ1为膜接触辊之前在液中的行进时间)。
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：CN100346180C
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN02830025.4
申请日：2002-12-12
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: B29D11/00 , B29C55/06 , B29D11/00634 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3033
Abstract: 一种用于生产偏振片的方法，包含将碘在其中/其上吸附和取向的聚乙烯薄膜浸渍在含硼酸水溶液中的步骤，其中该水溶液在450纳米波长下具有0.13或更小的吸收率。所生产的偏振片具有高对比度。
-
公开(公告)号：CN104094141B
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201380006145.6
申请日：2013-01-21
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: B29C55/06 , B29C55/026 , B29K2029/04 , B29K2995/0034 , G02B5/3008 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种偏振膜、以及该偏振膜上形成有保护层的偏振板，关于所述偏振膜，使碘吸附取向于聚乙烯醇系树脂(PVA)膜，硼含量处于1～3.5重量％的范围内，裁切成将吸收轴作为长边的2mm×10mm的大小且于80℃下加热4小时时，其吸收轴方向上的收缩力为2.8N以下，且正交色调的b值处于－2.2～+0.5的范围内。依次对PVA膜施行碘染色、硼酸处理及水洗，并且在硼酸处理或者在其之前的阶段中进行单轴拉伸，在上述硼酸处理与水洗之间实施对膜进行干燥的一次干燥，由此可制造该偏振膜。
-
公开(公告)号：CN100501464C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200610003607.0
申请日：2006-01-04
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 提供一种在膜上褶皱的发生、和膜的断裂少，而且条纹少外观好的偏振光膜的制造方法。本发明的偏振光膜的制造方法，是将聚乙烯醇系膜按膨润处理、染色处理、硼酸处理、水洗处理及干燥处理的顺序处理，从而制造偏振光膜的方法，其特征在于，一边对膜给予张力一边采用多阶段进行干燥处理，进行张力控制，以便使干燥处理的各阶段中的膜的每单位宽的张力达到基本上恒定，并且使后阶段的张力为前阶段的张力以下而进行；进而，其特征在于，使后阶段的干燥温度为前阶段的干燥温度以上而进行。
-
公开(公告)号：CN100437162C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200410100386.X
申请日：2004-12-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供染色不匀少、而且褶皱发生频率减少或可降低染色处理后的工序中的张力的偏光膜的制造方法、偏振片和光学叠层体。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、碘染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序之前在2段以上的染色浴中进行碘染色，而且，在2段以上的染色浴中进行单轴拉伸，(1)使最初的染色浴中的拉伸倍率高于第2段以后的染色浴中的合计拉伸倍率，或(2)使最后的染色浴中的拉伸倍率高于此前的染色浴中的合计拉伸倍率，而进行单轴拉伸。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
23
records
(took 0.099 seconds)
