公开(公告)号：CN104684870B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201380050338.1

申请日：2013-09-27

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 大田瑞穗 ,  石川和洋 ,  织田武广

IPC: C04B35/584 ,  F27D11/02 ,  H05B3/14

CPC classification number: C04B35/584 ,  C04B35/591 ,  C04B35/5935 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/6565 ,  C04B2235/6587 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/85 ,  C04B2235/94 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  F27D11/02 ,  F27D99/0006 ,  H05B3/14

Abstract: 本发明提供一种导热率高的氮化硅质烧结体及加热装置以及吸附装置。本发明的氮化硅质烧结体具有氮化硅的结晶、MgRE4Si3O13的结晶(RE为稀土元素)、和REMgSi2O5N的结晶，因此具有高导热率。另外，具备包含这样的氮化硅质烧结体的保护管的加热装置能够高效传导加热器的热。而且，具备包含这样的氮化硅质烧结体的吸附构件的吸附装置能够将被吸附体所具有的热高效地散热。

公开(公告)号：CN113260732A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201980079404.5

申请日：2019-12-02

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 石川和洋 ,  日野高志 ,  斋藤秀一

IPC: C23C14/08 ,  C04B35/10 ,  C04B41/87 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置用构件和具备它的等离子体处理装置，其耐等离子体性优异，膜对于基材的密接强度得到提高。等离子体处理装置用构件(1)具备如下而成：含有作为金属元素或半金属元素的第一元素的基材(2)；位于基材(2)之上的以稀土元素的氧化物、氟化物或氟氧化物为主成分的膜(3)；介于基材(2)和膜(3)之间，含有第一元素、钇、以及氧和氟中的至少任意一种的非晶质部(4)。

公开(公告)号：CN104470872A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201380038715.X

申请日：2013-08-12

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 平野义宜 ,  大田瑞穗 ,  石川和洋 ,  织田武广

IPC: C04B35/584

CPC classification number: C04B35/584 ,  C04B2235/3201 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3208 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3258 ,  C04B2235/3272 ,  C04B2235/3873 ,  C04B2235/3891 ,  C04B2235/428 ,  C04B2235/5409 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/6587 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/85 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2235/9661

Abstract: 本发明提供一种对碱成分的耐腐蚀性及导热率高的氮化硅质烧结体及导热构件。一种氮化硅质烧结体，其具有氮化硅结晶、和包含钠氧化物及钾氧化物的至少任意一种的晶界相，前述钠氧化物及前述钾氧化物的含量在总质量中以分别换算成Na2O、K2O的值的总和计为0.2质量％以上且1质量％以下。通过满足该组成，能够兼具对碱的高耐腐蚀性和高导热率。

公开(公告)号：CN102770394A8

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN201180010704.1

申请日：2011-02-24

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 饭田真美 ,  八岛美惠子 ,  石峰裕作 ,  石川和洋

IPC: C04B35/565 ,  C04B35/626 ,  F16J15/34

Abstract: 本发明提供一种碳化硅质烧结体及使用其的滑动部件以及防护体，其中，所述碳化硅质烧结体在长期持续使用中，即使由于热撞击或机械撞击而产生微小的裂纹，但能够抑制裂纹的发展。一种碳化硅质烧结体，以碳化硅粒子作为主构成且相对密度为95％以上，在该碳化硅质烧结体的观察面，面积为170μm2以上的粗粒状碳化硅粒子(1b)存在6面积％以上且15面积％以下。强度、刚性等机械特性优良，并且尽管通过热撞击或机械撞击而产生微小的裂纹，但通过粗粒状碳化硅粒子(1b)能够抑制裂纹的发展。

公开(公告)号：CN102770394A

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：CN201180010704.1

申请日：2011-02-24

Applicant: 京瓷株式会社

Inventor： 铃木真美 ,  八岛美惠子 ,  石峰裕作 ,  石川和洋

IPC: C04B35/565 ,  C04B35/626 ,  F16J15/34

CPC classification number: C04B35/565 ,  C04B35/62695 ,  C04B35/638 ,  C04B2235/3208 ,  C04B2235/3821 ,  C04B2235/422 ,  C04B2235/424 ,  C04B2235/425 ,  C04B2235/5296 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/783 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/788 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2235/963 ,  F16C33/62 ,  F16C2206/56 ,  F16J15/3496 ,  Y10T428/24421

Abstract: 本发明提供一种碳化硅质烧结体及使用其的滑动部件以及防护体，其中，所述碳化硅质烧结体在长期持续使用中，即使由于热撞击或机械撞击而产生微小的裂纹，但能够抑制裂纹的发展。一种碳化硅质烧结体，以碳化硅粒子作为主构成且相对密度为95％以上，在该碳化硅质烧结体的观察面，面积为170μm2以上的粗粒状碳化硅粒子(1b)存在6面积％以上且15面积％以下。强度、刚性等机械特性优良，并且尽管通过热撞击或机械撞击而产生微小的裂纹，但通过粗粒状碳化硅粒子(1b)能够抑制裂纹的发展。