公开(公告)号：CN116167944A

公开(公告)日：2023-05-26

申请号：CN202310208455.1

申请日：2023-03-07

Applicant: 中南大学

Inventor： 雷文太 ,  庞泽邦 ,  王睿卿 ,  隋浩 ,  辛常乐 ,  毛凌青 ,  张硕 ,  王义为 ,  罗诗光 ,  檀鑫 ,  郑智钦 ,  马亚楼

IPC: G06T5/00 ,  G06T5/20

Abstract: 本发明提供一种分段线性图像边缘保持的全弯曲滤波方法、装置及系统，该方法包括：构建用于使图像具有边缘保持能力的高阶几何全弯曲滤波模型；基于全弯曲滤波模型的目标函数，结合乘法策略将其一阶导数和二阶导数结合；基于梯度下降法处理全弯曲滤波模型得到欧拉‑拉格朗日类型的高阶各向异性非线性方程；基于高阶各向异性非线性方程，采用有限差分法进行求解，得到全弯曲滤波模型的解；确定图像中的目标像素；在基于全弯曲滤波模型处理图像时，结合多个滤波窗口并行处理多个目标像素，并分别选取最大差分值作为各目标像素在图像中位置处的梯度。本发明的分段线性图像边缘保持的全弯曲滤波方法能够在光滑图像的同时显著提高边缘保持能力。

公开(公告)号：CN115061138B

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202210992032.9

申请日：2022-08-18

Applicant: 中南大学

Inventor： 雷文太 ,  王义为 ,  隋浩 ,  毛凌青 ,  辛常乐 ,  张硕 ,  罗诗光 ,  王睿卿

IPC: G01S13/90 ,  G01S7/41 ,  G06T5/30 ,  G06T5/00 ,  G06T7/11 ,  G06T11/00

Abstract: 本发明提供一种探地雷达自聚焦并行掩膜后向投影成像方法、设备及介质，其中方法包括：获得B‑scan回波数据；对B‑scan回波数据归一化成像，进行二值化处理与形态学滤波，得到预掩膜矩阵；设定背景介质相对介电常数估计区间，令估计区间中值为背景介质相对介电常数估计值；根据该估计值和预掩膜矩阵，并行计算获得并行掩膜后向投影成像结果；根据二分法和并行掩膜后向投影成像结果更新估计区间，迭代运算，直至估计区间满足设定条件，获得背景介质最终估计值与自聚焦并行掩膜后向投影成像结果。本发明能够提高成像质量，缩短计算时间，在未知背景介质相对介电常数条件下实现背景介质相对介电常数估计与自聚焦并行掩膜后向投影成像。

公开(公告)号：CN115061138A

公开(公告)日：2022-09-16

申请号：CN202210992032.9

申请日：2022-08-18

Applicant: 中南大学

Inventor： 雷文太 ,  王义为 ,  隋浩 ,  毛凌青 ,  辛常乐 ,  张硕 ,  罗诗光 ,  王睿卿

IPC: G01S13/90 ,  G01S7/41 ,  G06T5/30 ,  G06T5/00 ,  G06T7/11 ,  G06T11/00

Abstract: 本发明提供一种探地雷达自聚焦并行掩膜后向投影成像方法、设备及介质，其中方法包括：获得B‑scan回波数据；对B‑scan回波数据归一化成像，进行二值化处理与形态学滤波，得到预掩膜矩阵；设定背景介质相对介电常数估计区间，令估计区间中值为背景介质相对介电常数估计值；根据该估计值和预掩膜矩阵，并行计算获得并行掩膜后向投影成像结果；根据二分法和并行掩膜后向投影成像结果更新估计区间，迭代运算，直至估计区间满足设定条件，获得背景介质最终估计值与自聚焦并行掩膜后向投影成像结果。本发明能够提高成像质量，缩短计算时间，在未知背景介质相对介电常数条件下实现背景介质相对介电常数估计与自聚焦并行掩膜后向投影成像。