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公开(公告)号：CN105448800B
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201510826813.0
申请日：2015-11-25
Applicant: 东莞同济大学研究院
IPC: H01L21/70 , H01L21/027 , H01L21/02
Abstract: 本发明公开了一种基于3D打印技术的曲面薄膜电路的制作方法；包括如下步骤：a、设置基体金属膜，在曲面结构件上设置基体金属膜；b、涂光刻胶，在a步骤中得到的金属膜上旋涂光刻胶；c、使用3D打印机打印出带有电路微结构的掩膜板；d、曝光，将掩膜板置于涂设光刻胶的曲面结构件上进行曝光处理，并得到曝光后的曲面结构件；e、显影，将d步骤中得到的曲面结构件置于显影剂中显影，并得到显影后的曲面结构件；f、腐蚀，取下掩膜板后使用腐蚀剂腐蚀e步骤中得到的曲面结构件。本发明能真正意义上实现薄膜电路的制作；其成本低、可批量生产；其精度高而且实现的曲面薄膜电路可以是任意曲面形状。
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公开(公告)号：CN106179815A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610670916.7
申请日：2016-08-15
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞科伏精密制造有限公司
CPC classification number: B05B9/002 , B05B13/0431 , B05B15/70 , B05D1/02
Abstract: 本发明涉及一种喷涂机，具体地，涉及一种喷涂更均匀，喷涂效率更高的喷涂机，包括喷涂系统、工作平台、PLC控制系统，加热系统，所述喷涂系统包括角度可调节的喷头，所述喷头通过旋转机构连接在X轴滑动平台上；X轴滑动平台和Z轴滑动平台通过滑动连接，旋转机构与样品托盘连接，带动样品托盘绕中轴旋转，托盘上设有夹具，夹具与托盘固定，夹具用来固定待喷涂的样品；所述加热系统包括加热器及温度传感器，加热器安装在托盘上，内置与曲面样品内部。本发明一种喷涂机，可调节保持喷头与曲面相对垂直，喷头喷涂入射时，保持垂直入射到曲面样品表面，提高了喷涂的均匀性。
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公开(公告)号：CN112259970B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202011042145.X
申请日：2020-09-28
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞天卫电磁技术有限公司 , 中国电子科技集团公司第十四研究所
Abstract: 本发明涉及透波隐身结构材料技术领域，尤其是指一种宽频透波的吸透一体电磁超结构，其所述吸透一体电磁超结构包括从上至下依次层叠设置的阻抗超结构层和透波单元，所述透波单元设置有至少一个，所述透波单元包括低介电层以及设置在低介电层下方的透波超结构层；所述阻抗超结构层包括第一介质基板以及设置在第一介质基板上的贴片电阻、一个谐振方环和两个E形偶极子谐振片；所述透波超结构层包括第二介质基板和设置在第二介质基板上的透波谐振金属片。本发明结构新颖，实现了吸波和宽频透波性能，进一步的，本发明使用相对较少的超结构层实现宽频透波性能，工程加工简单，易于大批量生产。
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公开(公告)号：CN106443198B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201610799191.1
申请日：2016-08-31
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞天维光子学技术有限公司
Abstract: 本发明涉及材料测试技术领域，具体公开了一种同轴线测试方法。和传统的同轴线测试方法比较，专门设计了金属环校准件，通过加载金属环校准件可以直接校准到空气线两端，从而解决非专用转接头到空气线端口校准困难的问题。测试包括如下步骤，分别测试空气线、内导体套设有金属环的空气线、内导体套设有待测材料的空气线的散射参数，根据测试获得的散射参数，计算得出待测材料的介电常数和/或磁导率；本发明的测试方式，无需使用与同轴转接头匹配的校准器件，也无需调整待测材料在同轴线内部的绝对位置，在节省成本的同时也避免了材料在同轴线内实际位置与测量位置偏差而产生的误差。
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公开(公告)号：CN106094447B
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201610670785.2
申请日：2016-08-15
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞科伏精密制造有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻机，具体涉及一种曝光装置可旋转的光刻机。包括工作平台、PLC控制系统、曝光装置。组装时，X轴滑动平台与Z轴滑动平台通过滑动槽连接，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别与电机连接，实现平移，曝光装置设置在X轴靠后位置，曝光装置与电机连接，实现调节曝光装置与X轴的夹角，托盘与电机连接，曲面产品放置在托盘上，用设置在托盘的夹角固定，避免旋转过程中被甩出。通过曝光装置照射的光线的垂直入射，提高光刻的均匀性，实现光刻的高精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107069160A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710055100.8
申请日：2017-01-24
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞天卫隐身技术有限公司
Abstract: 本发明涉及一种具有吸波功能的微波波段带通滤波器，属于无线通信和新型人工电磁材料技术领域。其包括：多个正方形的滤波单元，所述滤波单元由4个呈正方形设置的吸收单体拼接而成，吸收单体包括：位于底层的金属滤波层，其厚度为17～36μm；位于中间层的介质层，其厚度为2～6mm；位于表层且金属材质的耦合层，其厚度为17～36μm；其中，耦合层的中部设有通孔并将耦合层分成两部分，且耦合层呈对称结构；相邻的两个吸收单体的通孔方向垂直。本发明结构可以在S波段的高频部分或C波段的低频部分有透射，而在C波段的高频部分和X、Ku波段有很多吸收波段，从而大大提高了信噪比。
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公开(公告)号：CN106711619A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201611263343.2
申请日：2016-12-30
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞天卫隐身技术有限公司
IPC: H01Q17/00
CPC classification number: H01Q17/00
Abstract: 本发明涉及一种太赫兹电磁波吸收器，包括多个吸波功能单元，吸波功能单元呈方形体结构，其包括导电膜层厚度为0.4～1.6μm；介质层厚度为20～30μm；吸收层厚度为0.4～1.6μm。吸收层是回转的鱼形线结构，包括4个结构相同的吸收单元，每个吸收单元包括吸收部和一个位于外部的耦合块，吸收部包括多条长吸收条，相邻的两条长吸收条的一个端部之间设置有短连接吸收条，短连接吸收条交错设置在吸收部；相邻的两条长吸收条之间的间距为0.2～0.4μm；吸收部的尾部与耦合块连接；耦合块的长度方向与吸收部的长度方向垂直设置，且耦合块与相邻的另一吸收单元的吸收部的首部连接。本发明可有效对太赫兹波段的电磁波进行吸收。
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公开(公告)号：CN106707382A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201611270042.2
申请日：2016-12-30
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞天卫隐身技术有限公司
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/003
Abstract: 本发明涉及一种主要针对波长在400纳米至830纳米光谱范围内的光进行吸收的基于齿形结构的光吸收器。光吸收器包含多个回音壁型吸波单元，回音壁型吸波单元包含：位于底层的金属底层，厚度为：t金属2；位于中间层的介质层，厚度为t介质；t介质＝60～80nm；位于表层且金属材质的光耦合层，其厚度为t金属1；t金属1：t介质：t金属2＝1：(1.5～3)：(4～7.5)；所述光耦合层呈矩形设置，且中部设有矩形的耦合孔；光耦合层的4个侧面均设有至少两个矩形耦合凹孔，相邻的两个矩形耦合凹孔之间形成凸齿；位于同一侧面的所有矩形耦合凹孔的长度相等。本发明结构可有效对可见光以及近红外光进行吸收。
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公开(公告)号：CN106094447A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610670785.2
申请日：2016-08-15
Applicant: 东莞同济大学研究院 , 东莞科伏精密制造有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70725 , G03F7/70066 , G03F7/7055
Abstract: 本发明涉及一种光刻机，具体涉及一种曝光装置可旋转的光刻机。包括工作平台、PLC控制系统、曝光装置。组装时，X轴滑动平台与Z轴滑动平台通过滑动槽连接，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别与电机连接，实现平移，曝光装置设置在X轴靠后位置，曝光装置与电机连接，实现调节曝光装置与X轴的夹角，托盘与电机连接，曲面产品放置在托盘上，用设置在托盘的夹角固定，避免旋转过程中被甩出。通过曝光装置照射的光线的垂直入射，提高光刻的均匀性，实现光刻的高精度。
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公开(公告)号：CN105448800A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510826813.0
申请日：2015-11-25
Applicant: 东莞同济大学研究院
IPC: H01L21/70 , H01L21/027 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/707 , H01L21/02071 , H01L21/0274
Abstract: 本发明公开了一种基于3D打印技术的曲面薄膜电路的制作方法；包括如下步骤：a、设置基体金属膜，在曲面结构件上设置基体金属膜；b、涂光刻胶，在a步骤中得到的金属膜上旋涂光刻胶；c、使用3D打印机打印出带有电路微结构的掩膜板；d、曝光，将掩膜板置于涂设光刻胶的曲面结构件上进行曝光处理，并得到曝光后的曲面结构件；e、显影，将d步骤中得到的曲面结构件置于显影剂中显影，并得到显影后的曲面结构件；f、腐蚀，取下掩膜板后使用腐蚀剂腐蚀e步骤中得到的曲面结构件。本发明能真正意义上实现薄膜电路的制作；其成本低、可批量生产；其精度高而且实现的曲面薄膜电路可以是任意曲面形状。
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