新型沸石
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111573693B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202010411603.6

    申请日:2016-02-04

    Inventor: 楢木祐介

    Abstract: 本发明的目的在于提供具有新型结构的AFX型沸石。一种AFX型沸石,其特征在于,(004)面的晶面间距d为以上且以下,且二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为10以上且32以下。这种AFX型沸石可以通过具备将如下组合物以160℃以上进行结晶化的结晶化工序的制造方法来制造:该组合物包含硅源、铝源、1,3‑二(1‑金刚烷基)咪唑鎓阳离子及碱金属,至少为氢氧根离子相对于二氧化硅的摩尔比低于0.25或二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为27以下中的任一者,且1,3‑二(1‑金刚烷基)咪唑鎓阳离子相对于二氧化硅的摩尔比低于0.20。

    新型沸石
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107207270B

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201680009000.5

    申请日:2016-02-04

    Inventor: 楢木祐介

    Abstract: 本发明的目的在于提供具有新型结构的AFX型沸石。一种AFX型沸石,其特征在于,(004)面的晶面间距d为以上且以下,且二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为10以上且32以下。这种AFX型沸石可以通过具备将如下组合物以160℃以上进行结晶化的结晶化工序的制造方法来制造:该组合物包含硅源、铝源、1,3‑二(1‑金刚烷基)咪唑鎓阳离子及碱金属,至少为氢氧根离子相对于二氧化硅的摩尔比低于0.25或二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为27以下中的任一者,且1,3‑二(1‑金刚烷基)咪唑鎓阳离子相对于二氧化硅的摩尔比低于0.20。

    新型沸石
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111573693A

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN202010411603.6

    申请日:2016-02-04

    Inventor: 楢木祐介

    Abstract: 本发明的目的在于提供具有新型结构的AFX型沸石。一种AFX型沸石,其特征在于,(004)面的晶面间距d为以上且 以下,且二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为10以上且32以下。这种AFX型沸石可以通过具备将如下组合物以160℃以上进行结晶化的结晶化工序的制造方法来制造:该组合物包含硅源、铝源、1,3-二(1-金刚烷基)咪唑鎓阳离子及碱金属,至少为氢氧根离子相对于二氧化硅的摩尔比低于0.25或二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比为27以下中的任一者,且1,3-二(1-金刚烷基)咪唑鎓阳离子相对于二氧化硅的摩尔比低于0.20。

    β型沸石及其制造方法
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111511685A

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:CN201880080136.4

    申请日:2018-12-12

    Inventor: 陈宁 楢木祐介

    Abstract: 提供一种β型沸石,其SiO2/Al2O3比不足20,并且具有与以往的SiO2/Al2O3比为20以上的β型沸石同等程度以上的耐热性。一种β型沸石,其特征在于,在以CuKα射线为射线源的粉末X射线衍射测定中,(302)面的粉末X射线衍射峰的半峰宽为0.15以上且0.50以下,并且,二氧化硅相对于氧化铝的摩尔比不足20。这样的β型沸石优选通过如下制造方法来得到,所述制造方法的特征在于,具有使包含氧化铝源、二氧化硅源、碱源、四乙基铵阳离子源及水的组合物晶化的晶化工序;该组合物含有钾,并且钾相对于二氧化硅的摩尔比超过0.04。

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