公开(公告)号：CN117813676A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280052184.9

申请日：2022-07-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永关一也 ,  茂山和基 ,  桧森慎司 ,  本田昌伸 ,  照内怜

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/50 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供处理方法和等离子体处理装置。对基片进行等离子体处理的处理方法包括：在构成为可减压的处理容器内的基片支承部的载置面上载置温度调节对象体的步骤；将由液体的介质或具有流动性的固体的介质中的至少任一者构成的传热介质经由上述基片支承部供给到该基片支承部的上述载置面与上述温度调节对象体的背面之间来形成传热层的步骤；对形成了上述传热层的上述载置面上的基片进行等离子体处理的步骤；和在等离子体处理后，将上述温度调节对象体与上述载置面分隔开的步骤。

公开(公告)号：CN106463390B

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201580024624.X

申请日：2015-06-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 照内怜

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H05B3/00 ,  H05H1/46

Abstract: 一实施方式的等离子体处理装置具备处理容器、载置台、多个加热器及供电装置。载置台设置于处理容器内。多个加热器设置于载置台内。供电装置对多个加热器供给电力。供电装置具备多个变压器及多个零交控制型的固态继电器(SSR)。多个变压器构成为使来自交流电源的电压降压。多个变压器各自具有一次线圈及二次线圈。一次线圈与交流电源连接。多个SSR分别设置于多个加热器中对应的一个加热器与多个变压器中对应的一个变压器的二次线圈之间。

公开(公告)号：CN106463390A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580024624.X

申请日：2015-06-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 照内怜

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H05B3/00 ,  H05H1/46

Abstract: 一实施方式的等离子体处理装置具备处理容器、载置台、多个加热器及供电装置。载置台设置于处理容器内。多个加热器设置于载置台内。供电装置对多个加热器供给电力。供电装置具备多个变压器及多个零交控制型的固态继电器(SSR)。多个变压器构成为使来自交流电源的电压降压。多个变压器各自具有一次线圈及二次线圈。一次线圈与交流电源连接。多个SSR分别设置于多个加热器中对应的一个加热器与多个变压器中对应的一个变压器的二次线圈之间。