真空射流喷嘴
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104373248A

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201410588807.1

    申请日:2014-10-28

    Abstract: 根据本发明提供的一种真空射流喷嘴,其能够改善航天器在轨液体排放时,对排放口近壁面污染的喷嘴。本发明是通过圆弧收缩口保持管路内部压力,减缓闪蒸和结冰,使得在轨排放能顺利进行,且出流液体含气量较低,雾化锥角较小,管路内壁光滑和管嘴唇口锐利能防止冰粒附着,使排放得以顺利进行。

Patent Agency Ranking