一种用于大尺寸单晶硅的径向匀照装置及方法

    公开(公告)号:CN117107364A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202310929383.X

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 本发明属于核反应堆工程技术领域,提出了一种用于大尺寸单晶硅的径向匀照装置及方法,包括桶体、设置在所述桶体外侧的中子屏、设置在桶体内的至少一个反射块以及设置在桶体内的旋转驱动机构;用于放置硅碇的桶体外侧的中子屏,以及在桶体内的至少一个反射块和旋转驱动机构;中子屏周向上开设有缝隙,进行辐照时,所述旋转驱动机构带动中子屏中的硅碇不停旋转,硅碇径向外侧部分不断交替进入不同程度的中子通量区域;反射块位于硅碇的端部,进入反射块中的中子,经过散射,从端面对硅碇进行辐照。在单晶硅外部位置放置中子屏和反射块,从而改变中子进入硅碇的位置和方向,辐照中配合对硅碇进行转动,实现对大尺寸单晶硅辐照掺杂的径向均匀化。

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