公开(公告)号：CN101198429A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200680000658.6

申请日：2006-04-05

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 中岛洋二 ,  瓦井久胜 ,  石原秀一郎 ,  山田久

IPC: B23H1/10 ,  B23H7/02 ,  B23H7/14 ,  B23H7/36 ,  C02F1/42

CPC classification number: B23H1/10 ,  B23H7/36 ,  C02F2001/422 ,  C02F2001/425 ,  C02F2001/427

Abstract: 在使用水基加工液作为加工液，一边对在电极(2)和被加工物(1)之间形成的加工间隙施加电压一边进行前述被加工物(1)的加工的放电加工装置中，具有：防蚀电源部(26)，其以前述被加工物为阴极，以隔着绝缘物(24)彼此相向的防蚀电极(25)为阳极，施加规定的电压；加工液质测定器(22)，其测定前述加工液的状态；加工液质控制单元(16、17、18、19、20、21、23)，其根据该加工液质测定器(22)的测定结果进行控制，以使得前述加工液的pH值成为8.5～10.5。

公开(公告)号：CN100537101C

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200580038144.5

申请日：2005-05-23

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 瓦井久胜 ,  佐藤清侍 ,  石原秀一郎

IPC: B23H1/10 ,  B01J47/02

CPC classification number: B23H1/10 ,  B01J47/14 ,  B01J47/15 ,  C02F1/008 ,  C02F1/42 ,  C02F1/66 ,  C02F2001/427 ,  C02F2001/4619 ,  C02F2209/05 ,  C02F2209/06 ,  C02F2303/08 ,  Y10S210/90

Abstract: 本发明获得一种不使用pH计而控制作为在放电加工处理中使用的加工液的离子交换水的pH值和导电率的加工液液质控制装置及其方法。其具有：加工液槽，其储存加工液；纯水化部，其从加工液槽的加工液中去除杂质离子并生成纯水，以使得杂质离子达到规定量；防腐蚀离子生成部，其将加工液槽内的加工液中的杂质阳离子置换为规定的阳离子，将杂质阴离子置换为防腐蚀离子；切换部，其将加工液槽中的加工液切换为送入纯水化部或防腐蚀离子生成部中的某一个；导电率测定部，其测定加工液槽内的加工液的导电率；以及切换控制部，其根据由导电率测定部测定出的导电率，控制切换部，以将加工液送入纯水化部或防腐蚀离子生成部中的某一个。

公开(公告)号：CN101253016A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200680019012.2

申请日：2006-10-18

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 瓦井久胜 ,  石原秀一郎 ,  中岛洋二 ,  山田久

IPC: B23H1/10

Abstract: 一种放电加工装置，其使用水类加工液作为加工液，一边对在电极(2)和被加工物(1)之间形成的加工间隙施加电压，一边进行上述被加工物(1)的加工，其具有：绝缘部(12)，其使设置上述被加工物的平台(11)和上述被加工物(1)之间电气绝缘；加工液质测定器(112)，其测定上述加工液的状态；以及加工液质控制单元(106、107、108、109、110、111、113)，其根据该加工液质测定器(112)的测定结果进行控制，以使得上述加工液的pH值成为8.5～10.5。

公开(公告)号：CN101232965A

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200680028403.0

申请日：2006-04-05

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 瓦井久胜 ,  石原秀一郎 ,  中岛洋二 ,  山田久

IPC: B23H1/10 ,  B23H7/36

CPC classification number: B23H1/10 ,  B23H7/36

Abstract: 本发明提供一种液质控制方法、液质控制装置以及放电加工装置，它们通过在液质控制对象即被液质控制液的液质值小于第1条件值时，将该被液质控制液电解质溶液化，在上述液质值比大于或等于第1条件值的第2条件值大时，将该被液质控制液纯水化，而使被液质控制液的液质值落在规定范围内，同时，使该被液质控制液成为pH值与电导率间存在相关性的电解质溶液，由此，当调制用于放电加工的所期望液质的水类加工液时，可以省略电导率测定单元及pH值测定单元中的某一个。

公开(公告)号：CN101056734A

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：CN200580038144.5

申请日：2005-05-23

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 瓦井久胜 ,  佐藤清侍 ,  石原秀一郎

IPC: B23H1/10 ,  B01J47/02

CPC classification number: B23H1/10 ,  B01J47/14 ,  B01J47/15 ,  C02F1/008 ,  C02F1/42 ,  C02F1/66 ,  C02F2001/427 ,  C02F2001/4619 ,  C02F2209/05 ,  C02F2209/06 ,  C02F2303/08 ,  Y10S210/90

Abstract: 本发明获得一种不使用pH计而控制作为在放电加工处理中使用的加工液的离子交换水的pH值和导电率的加工液液质控制装置及其方法。其具有：加工液槽，其储存加工液；纯水化部，其从加工液槽的加工液中去除杂质离子并生成纯水，以使得杂质离子达到规定量；防腐蚀离子生成部，其将加工液槽内的加工液中的杂质阳离子置换为规定的阳离子，将杂质阴离子置换为防腐蚀离子；切换部，其将加工液槽中的加工液切换为送入纯水化部或防腐蚀离子生成部中的某一个；导电率测定部，其测定加工液槽内的加工液的导电率；以及切换控制部，其根据由导电率测定部测定出的导电率，控制切换部，以将加工液送入纯水化部或防腐蚀离子生成部中的某一个。