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公开(公告)号:CN108779249B
公开(公告)日:2021-05-28
申请号:CN201780015633.1
申请日:2017-02-24
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10
Abstract: 一种聚酰亚胺骨架结构的控制方法,在包含非质子性酰胺溶剂和内酯系溶剂的有机溶剂中,使二胺成分与(1S,2R,4S,5R)‑环己烷四羧酸二酐反应制备聚酰亚胺时,调整非质子性酰胺溶剂与内酯系溶剂的质量比、反应温度、反应时间和非质子性酰胺溶剂的量中的1种以上的反应条件,根据其反应条件,将生成的聚酰亚胺中的源自(1S,2R,4S,5R)‑环己烷四羧酸二酐的顺式型结构转化为源自(1R,2S,4S,5R)‑环己烷四羧酸二酐的反式型结构,控制反式型结构的比例。
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公开(公告)号:CN111683992A
公开(公告)日:2020-09-18
申请号:CN201980011494.4
申请日:2019-01-30
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10
Abstract: 本发明提供可形成机械特性、耐有机溶剂性、无色透明性、及光学各向同性优异的薄膜、且保存稳定性优异的聚酰亚胺树脂组合物,及聚酰亚胺薄膜。涉及聚酰亚胺树脂组合物、及该聚酰亚胺树脂组合物中的聚酰亚胺树脂通过交联剂进行交联而成的聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺树脂组合物包含聚酰亚胺树脂、和具有至少2个噁唑基的交联剂,前述聚酰亚胺树脂具有构成单元A及源自二胺的构成单元B,构成单元A包含构成单元(A-1),所述构成单元(A-1)为选自由源自式(a-1-1)所示化合物的构成单元(A-1-1)及源自式(a-1-2)所示化合物的构成单元(A-1-2)组成的组中的至少1种;构成单元B包含:源自式(b-1)所示化合物的构成单元(B-1)、和源自式(b-2)所示化合物的构成单元(B-2)。(式(b-1)中,R分别独立地为氢原子、氟原子、或甲基;式(b-2)中,X为单键或特定的基团,p为0~2的整数,m1为0~4的整数,m2为0~4的整数。其中,p为0时,m1为1~4的整数。)
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公开(公告)号:CN111133034A
公开(公告)日:2020-05-08
申请号:CN201880062394.X
申请日:2018-09-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种聚酰亚胺树脂,其包含源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B,结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1),结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)和源自下述式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2),结构单元A中的结构单元(A-1)的比率为50摩尔%以上,结构单元B中的结构单元(B-1)的比率为45摩尔%以上且85摩尔%以下,结构单元B中的结构单元(B-2)的比率为15摩尔%以上且55摩尔%以下。(式(b-2)中,R各自独立地表示氢原子、氟原子或甲基。)
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公开(公告)号:CN111051384A
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:CN201880058470.X
申请日:2018-09-07
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10 , C09D179/08
Abstract: 本发明提供聚酰亚胺、和包含该聚酰亚胺的聚酰亚胺薄膜、且能形成低延迟量和伸长率优异的薄膜的聚酰亚胺、以及包含该聚酰亚胺的聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺如下:源自四羧酸或其衍生物的结构单元A包含源自化合物(a-1)的结构单元(A-1),源自二胺的结构单元B包含:源自化合物(b-1)的结构单元(B-1);源自化合物(b-2)的结构单元(B-2);和选自源自化合物(b-3)~(b-5)的结构单元(B-3)~(B-5)中的至少1个结构单元,结构单元(B-1)相对于结构单元B的比率低于50摩尔%,结构单元(B-2)相对于结构单元B的比率为15摩尔%以上,结构单元(B-1)和结构单元(B-2)的总计相对于结构单元B所占的比率为50摩尔%以上。
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公开(公告)号:CN109071811A
公开(公告)日:2018-12-21
申请号:CN201780026791.7
申请日:2017-05-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明涉及聚酰亚胺树脂、包含该聚酰亚胺树脂和无机微粒的聚酰亚胺树脂组合物、和包含该聚酰亚胺树脂或该聚酰亚胺树脂组合物的聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺树脂为具有源自四羧酸二酐的结构单元A、和源自二胺的结构单元B的聚酰亚胺树脂,结构单元A包含源自4,4’-(六氟异丙叉基)二邻苯二甲酸酐的结构单元(A-1),结构单元B包含源自脂肪族二胺的结构单元,提供:能形成在耐热性、无色透明性的基础上兼具低吸水性的薄膜的聚酰亚胺树脂、聚酰亚胺树脂组合物和聚酰亚胺薄膜。
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公开(公告)号:CN105283487A
公开(公告)日:2016-01-27
申请号:CN201480032987.3
申请日:2014-07-03
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10 , B32B15/088 , B32B27/34 , C08K3/36 , C08L79/08
CPC classification number: C08G73/1082 , B32B9/045 , B32B15/08 , B32B17/064 , B32B27/08 , B32B27/281 , B32B2250/02 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2457/14 , B32B2457/20 , B32B2551/00 , C07C235/82 , C07C235/84 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1078 , C08J5/18 , C08J2379/08 , C08K3/36 , C09D179/08 , C08L79/08
Abstract: 一种聚酰亚胺树脂,其为包含下述通式(1)所示的重复结构单元和下述通式(2)所示的重复结构单元的聚酰亚胺树脂,通式(2)所示的重复结构单元的含量相对于通式(1)所示的重复结构单元与通式(2)所示的重复结构单元的总和处于特定范围,且下述结构式(B1)所示的2价基团的含量处于特定范围。式(1)(2)(X1为包含脂环式烃结构的碳原子数4~22的4价基团。X2为包含芳香环的碳原子数6~22的4价基团。R1和R2各自独立地为2价有机基团,下述结构式(B1)所示的2价基团的含量相对于R1与R2的总和为80~100摩尔%。)式(B1)。
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公开(公告)号:CN115135702A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202180015182.8
申请日:2021-02-18
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种聚酰亚胺薄膜的制造方法,其为由聚酰亚胺树脂所形成的聚酰亚胺薄膜的制造方法,前述聚酰亚胺树脂具有:源自四羧酸二酐的结构单元A和源自二胺的结构单元B,结构单元A包含:源自脂环式四羧酸二酐的结构单元,结构单元B包含:源自下述通式(b1)所示的化合物的结构单元(B1),所述制造方法如下:将有机溶剂中溶解该聚酰亚胺树脂而成的聚酰亚胺清漆涂布于支撑体上,在60~140℃下去除该有机溶剂,形成自支撑性薄膜,将该自支撑性薄膜自支撑体剥离,将该自支撑性薄膜的端部固定,在超过聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度的温度且比聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度高50℃的温度以下进行焙烧。(式(b1)中,X1表示单键、任选由氟取代的碳数1~5的亚烷基、任选由氟取代的碳数2~5的烷叉基、‑S‑、‑SO‑、‑SO2‑、‑O‑或‑CO‑。)
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公开(公告)号:CN113574098A
公开(公告)日:2021-10-29
申请号:CN202080020664.8
申请日:2020-03-17
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种无色透明树脂薄膜的制造方法,其为通过溶液流延法而制造树脂薄膜的方法,所述溶液流延法是使树脂的有机溶剂溶液在支撑体上流延并干燥的方法,前述有机溶剂含有沸点80℃以下的有机溶剂(S1)和沸点130℃以上的有机溶剂(S2)各1种以上。
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公开(公告)号:CN109071812B
公开(公告)日:2021-06-01
申请号:CN201780027653.0
申请日:2017-05-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G73/10
Abstract: 一种聚酰亚胺树脂,其为包含源自四羧酸二酐的结构单元A、和源自二胺化合物的结构单元B的聚酰亚胺树脂,结构单元A包含:源自下述式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)、源自下述式(a‑2)所示的化合物的结构单元(A‑2)和源自下述式(a‑3)所示的化合物的结构单元(A‑3)中的至少任1种,结构单元B包含源自下述式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1),结构单元B中的结构单元(B‑1)的比率为60摩尔%以上,聚酰亚胺树脂的玻璃化转变温度超过410℃。(式(b‑1)中的X和Y各自独立地为氢原子、甲基、氯原子或氟原子)。
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公开(公告)号:CN112041371A
公开(公告)日:2020-12-04
申请号:CN201980029003.9
申请日:2019-04-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种聚酰亚胺树脂、及包含该聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺清漆及聚酰亚胺薄膜,所述聚酰亚胺树脂具有源自四羧酸二酐的结构单元A及源自二胺的结构单元B,结构单元A包含源自式(a‑1)所示化合物的结构单元(A‑1),结构单元B包含源自式(b‑1)所示化合物的结构单元(B‑1)和源自式(b‑2)所示化合物的结构单元(B‑2)。
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