公开(公告)号：CN1296064A

公开(公告)日：2001-05-23

申请号：CN00134237.1

申请日：2000-09-28

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 池本一人 ,  安部幸次郎 ,  青山哲男

IPC: C11D7/26 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02071 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/263 ,  C11D7/268 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3227 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133

Abstract: 一种光刻胶洗涤组合物包括0.001—0.5%重量氟化合物,50—99%重量醚溶剂和余量是水。由于含有这种特定含量范围的醚溶剂,该光刻胶洗涤组合物在冲洗步骤中用水稀释时表现出减小腐蚀性并可以完全去除光刻胶残余物而不腐蚀电路材料和基片材料。