关节轴承试验机用加热装置

    公开(公告)号:CN215218058U

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202120554336.8

    申请日:2021-03-17

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本实用新型公开一种关节轴承试验机用加热装置,所述的关节轴承试验机用加热装置包括第一套筒、第二套筒和加热片,第一套筒的一端设有第一定位凸缘,第二套筒设在第一套筒外,第二套筒的一端抵在第一定位凸缘上,第一套筒的外周面和第二套筒的内周面的至少一者设有加热槽,加热片设在加热槽内。本实用新型关节轴承试验机用加热装置够精确地对需要位置施加温度,减少不必要热量的损失、提高实验数据的可靠性、成本低等优点。

    晶圆清洗支撑轮组件及晶圆竖直清洗装置

    公开(公告)号:CN202120880U

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:CN201120233165.5

    申请日:2011-07-04

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本实用新型提供一种晶圆清洗支撑轮组件晶圆竖直清洗装置,包括转轴、支撑轮、第一定位件、第二定位件和弹性件;支撑轮的外周面上设置有周向切槽,支撑轮设在转轴的一端以随转轴旋转且支撑轮沿转轴的轴向在预定区段内可移动;第一定位件安装在转轴上以限定支撑轮在预定区段的第一端的第一极限位置;第二定位件可拆卸地安装在转轴上以限定支撑轮在预定区段的第二端的第二极限位置,第二极限位置较第一极限位置更靠近转轴的一端;弹性件与支撑轮连接以对支撑轮施加沿转轴的轴向从第一极限位置指向第二极限位置的弹力。本实用新型的晶圆清洗支撑轮组件,结构简单,支撑轮安装拆卸方便,且更换的成本较低。

    新型化学机械抛光装置
    183.
    实用新型

    公开(公告)号:CN201824235U

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201020510119.0

    申请日:2010-08-30

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本实用新型涉及半导体制造设备领域,特别是涉及一种新型化学机械抛光装置。该装置的结构包括:由电机驱动旋转的抛光盘,固定于抛光盘上方的抛光液输送口,位于抛光盘上方的抛光头,以及安装于抛光头下表面具有曲线轮廓的抛光垫;待抛光的硅片安置在抛光盘上,并随抛光盘旋转,抛光液输出口直接向硅片输送抛光液,抛光头带动抛光垫一起做高频振动,对硅片进行抛光。本实用新型中,抛光盘的尺寸仅为旋转式化学机械抛光机的一半,材料去除率能达到旋转式化学机械抛光机的40%以上,而设备的占地面积小,仅为旋转式化学机械抛光机的1/4,面积利用率高,能够提高单位面积下设备的产量。

Patent Agency Ranking