图像形成系统
    93.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107783392A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201710682953.4

    申请日:2017-08-10

    Inventor: 小笠原兴人

    Abstract: 本发明的图像形成系统中,第一类图像形成装置(3-i)具备测定特定的设备状态的特定传感器,并根据该测定值而自动地编辑设定数据;第二类图像形成装置(4-j)不具备上述特定传感器;管理服务器(1)具备:机组管理部(31),其设定包含第一类图像形成装置(3-i)和第二类图像形成装置(4-j)的机组;传感器值收集部(32),其从机组中的第一类图像形成装置(3-i)收集特定传感器的测定值;以及设定数据应用部(33),其根据收集到的传感器值而生成用于该机组中的第二类图像形成装置(4-j)的设定数据,并应用于所述第二类图像形成装置(4-j)中。

    用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法

    公开(公告)号:CN104584525B

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201380041156.8

    申请日:2013-07-31

    Inventor: T·卡拉默

    CPC classification number: H04N1/00002 H04N1/4052

    Abstract: 本发明涉及一种用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法,其中,如此逐点辐射所述层,使得对于像点(Pi,k)实现黑化(Sist(Pi,k)),所述黑化相应于对于所述像点(Pi,k)预先确定的灰度级。为了能够在一个唯一的雕刻通过中雕刻在质量上高品质的图像,设置:对于所述像点(Pi,k)求取所实现的黑化(Sist(Pi,k));计算所求取的黑化(Sist(Pi,k))和预先确定的黑化(Ssoll(Pi,k))之间的差(ΔSi,k);并且将所述差(ΔSi,k)分布到至少两个仍待辐射的相邻像点(Pi,k+n;Pi+n,k+m)上。

    用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法

    公开(公告)号:CN104584525A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201380041156.8

    申请日:2013-07-31

    Inventor: T·卡拉默

    CPC classification number: H04N1/00002 H04N1/4052

    Abstract: 本发明涉及一种用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法,其中,如此逐点辐射所述层,使得对于像点(Pi,k)实现黑化(Sist(Pi,k)),所述黑化相应于对于所述像点(Pi,k)预先确定的灰度级。为了能够在一个唯一的雕刻通过中雕刻在质量上高品质的图像,设置:对于所述像点(Pi,k)求取所实现的黑化(Sist(Pi,k));计算所求取的黑化(Sist(Pi,k))和预先确定的黑化(Ssoll(Pi,k))之间的差(ΔSi,k);并且将所述差(ΔSi,k)分布到至少两个仍待辐射的相邻像点(Pi,k+n;Pi+n,k+m)上。

    调节成像系统的校准
    98.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102439961B

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201080021987.5

    申请日:2010-05-07

    CPC classification number: H04N1/00002

    Abstract: 本发明涉及一种调节成像系统的校准以校正几何失真的装置(10),包括:用于接收记录介质(17)的转动鼓;多个托架(18),每个托架具有包含多个可寻址成像通道的成像头(16);控制器,所述控制器被编程有查找表、解析关系或算法,所述查找表、解析关系或算法基于其他成像头的位置将对给定成像头的成像进行的校正调节相关联。本发明描述用于获得查找表、解析关系或算法的方法。该方法特别涉及大型成像系统。

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