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公开(公告)号：CN108539054B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201810332311.6
申请日：2018-04-13
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种有机发光显示器件阴极隔离柱的制备方法。首先制备压印模具，在模具上得到预先设计的凸型结构图案；在ITO衬底上均匀涂覆一层紫外固化胶，待其自由流平形成一压印层；模具压入压印层，使紫外固化胶充满模具的凸型结构图案，通过曝光使紫外固化胶发生反应硬化成型；释放压力将模具脱离ITO衬底；对ITO衬底进行反应离子刻蚀除去残留的紫外固化胶，得到与模具等比例的凸型结构；将ITO衬底倒置，通过微接触法在凸型结构的顶部粘上紫外固化胶，静置成型；采用UV光源照射固化，得到阴极隔离柱。采用紫外压印技术，在室温和常压下制备阴极隔离柱，工艺简单、步骤少、且不会引入水汽，大大提高OLED器件寿命，像素分辨率明显提高。
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公开(公告)号：CN109216405A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201710525447.4
申请日：2017-06-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01L27/32
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括：形成具有导电图形电极层的基板；对基板进行电铸生长，形成AMOLED用金属掩膜板；将AMOLED用金属掩膜板从基板分离；以及对基板重复进行电铸生长形成AMOLED用金属掩膜板。本发明提供的AMOLED用金属掩膜板的制造方法生产效率高，同时还能有效地降低生产周期和生产成本。
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公开(公告)号：CN105405752B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201510932682.4
申请日：2015-12-15
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H01L21/28 , H01L21/283 , H01L29/423
Abstract: 本发明公开了一种柔性纳米线栅型透明导电电极的制作方法，与已有技术相比，本发明制作的柔性透明电极的导电线栅结构，有选择性电沉积过程生长而成，最小线宽可达几十纳米。但电沉积形成的纳米线栅本身电导率较高，即便线栅宽度和厚度仅为几十纳米，仍然能保证较低的方阻值。本发明提出的柔性透明电极的制作方法，不仅可以制作单一功能电极，更可以通过在纳米转印模具表面沉积不同的材料层，经过多次转印过程制作多层复合电极、或者制作具有不同导电功能区的透明电极。
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公开(公告)号：CN107396543A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710568459.5
申请日：2017-07-13
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , G06F3/041 , H05K2203/0522 , H05K2203/0531
Abstract: 本发明涉及一种双面压印导电膜的制作方法及双面压印导电膜、电路板和触控模组。该双面压印导电膜的制作方法包括如下步骤：S1：提供透明基材和模具组，透明基材包括相对设置的第一表面和第二表面，模具组包括具有对应的对位靶标的输入端模具和输出端模具；S2：通过输入端模具并利用纳米压印的方式在透明基材的第一表面上压印形成输入端路线，通过输出端模具并利用纳米压印的方式在透明基材的第二表面上压印形成输出端路线；S3：在输入端路线、输出端路线上进行导电涂布及固化。该双面压印导电膜的制作方法更为简单，而且，其良品率更高。
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公开(公告)号：CN106448825A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610917067.0
申请日：2016-10-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种图形化精细导电薄膜，其包括基底和图形化精细电极，图形化精细电极放置于基底上或嵌入到基底中，图形化精细电极的电极的宽度在50nm-10μm之间，高度在10nm-10μm之间，表面粗糙度在0.1nm到100nm之间。本发明同时还公开了一种图形化精细导电薄膜的制作方法。本发明实现具有精细、高透过率、低方阻、高绕曲性能的图案化电极；不存在刻蚀工艺，绿色环保，电极分辨率能达到100nm，操作简单，适合大面积、低成本生产，可以用于触控屏，太阳能电池，LCD显示，OLED显示，QLED显示等应用领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102798918B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
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公开(公告)号：CN104185410A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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公开(公告)号：CN102418302B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: D21H21/48
Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN102063951B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201010533228.9
申请日：2010-11-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , H05K3/1258 , H05K3/1283 , H05K2203/0108 , H05K2203/1131
Abstract: 本发明提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括透明基底和导电金属，其中在透明基底上利用纳米压印技术压制出用于埋设导电金属颗粒的凹槽以及用于透光的网格，通过设计凹槽的线宽和深度以及占整个透明导电膜的比重，得到了一种透光率高且导电性好的透明导电膜。同时，由于导电金属部分被镶嵌在透明基底内部，不易脱落和氧化，并且可以采用柔性材料作为透明基底，开发出能在更多场合下应用的透明导电膜。同时本发明还提供了该透明导电膜的制作方法。
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公开(公告)号：CN102280075A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN201110219806.6
申请日：2011-08-02
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州维旺科技有限公司
IPC: G09F9/30
Abstract: 本发明提供了一种彩色图像的形成方法。该形成方法通过分析彩色图像的颜色组合，在对应的导光膜上制作对应颜色的导光图像，然后将这些导光图像重新组合后，形成完整的彩色发光图像，或可通过控制独立导光图像的发光顺序，形成动态效果的发光图像。由于本发明的彩色图像形成方法使用的是比较轻薄的导光膜材料作为发光图像的载体，因此具有体积轻薄、成本低廉且更具美感的优点，可以运用在诸如平面广告、室内装饰等各种场合。
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