公开(公告)号：CN113912504A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202110779594.0

申请日：2021-07-09

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  金东骏 ,  闵丙哲 ,  李萤振 ,  安慈恩 ,  权桐热 ,  李卓宰 ,  诸焕日

IPC: C07C211/54 ,  C07C211/58 ,  C07C211/61 ,  H01L51/54 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明提供一种以下述化学式1表示的化合物以及包含上述化合物的有机发光元件：

公开(公告)号：CN113121482A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN202011619746.2

申请日：2020-12-30

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  金熙宙 ,  金东骏 ,  闵丙哲 ,  林东焕 ,  李萤振 ,  安慈恩 ,  权桐热

IPC: C07D307/91 ,  C07D333/76 ,  C07D409/12 ,  C07F7/08 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50 ,  H01L51/54

Abstract: 本发明提供一种以下述化学式1表示的化合物以及包含上述化合物的有机发光元件。

公开(公告)号：CN112853357A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202011254004.4

申请日：2020-11-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李大雨 ,  申贤哲 ,  李相赫 ,  金奎怖

IPC: C23F1/30 ,  C23F1/02

Abstract: 本发明公开一种在有机发光二极管(OLED)像素制造中使用的不包含磷酸的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的金属布线形成方法。具体来讲，涉及一种通过在金属布线的制造工程中将金属膜蚀刻成特定图案而形成金属布线的蚀刻液组合物。上述蚀刻液组合物包含：羧基化合物40至60重量％、磺酸化合物1至4.9重量％、硝酸盐化合物10至20重量％、唑类化合物0.1至1重量％、以及余量的水。

公开(公告)号：CN112745232A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202011182071.X

申请日：2020-10-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  金熙宙 ,  金东骏 ,  林东焕 ,  金昇好 ,  李萤振 ,  安慈恩 ,  权桐热

IPC: C07C211/61 ,  C07F7/10 ,  H01L51/54

Abstract: 本发明提供一种以下述化学式1表示的化合物以及包含上述化合物的有机发光元件。

公开(公告)号：CN112457844A

公开(公告)日：2021-03-09

申请号：CN202011404218.5

申请日：2015-12-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  金奉记 ,  金成勋 ,  安贤哲 ,  金熙宙 ,  金东骏 ,  李萤振 ,  林东焕 ,  安慈恩

IPC: C09K11/06 ,  H01L51/54 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明的新颖化合物可适用于有机发光器件的发光层、电子注入层、电子传输层或空穴阻挡层，并将本发明的新颖化合物和咔唑衍生物作为有机发光器件的主体一起使用，从而可适当地调节激基复合物波长，并可极大化有机发光器件的效率及寿命。

公开(公告)号：CN111138395A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201911065499.3

申请日：2019-11-04

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  姜京敏 ,  金东骏 ,  闵丙哲 ,  韩政佑 ,  林东焕 ,  李萤振 ,  金昇好 ,  权桐热 ,  李成圭

IPC: C07D307/91 ,  C07D333/76 ,  H01L51/54

Abstract: 本发明涉及新颖化合物及包含其的有机发光器件，本发明一实例的新颖化合物适用于有机发光器件，可确保有机发光器件的高效率、长寿命、低的驱动电压及驱动稳定性。

公开(公告)号：CN111138296A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201911051436.2

申请日：2019-10-31

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  姜京敏 ,  金东骏 ,  闵丙哲 ,  徐净雅 ,  韩政佑 ,  林东焕 ,  李政炫 ,  权桐热 ,  李成圭

IPC: C07C211/58 ,  C07C211/59 ,  C07C211/61 ,  C07C217/84 ,  C07C255/58 ,  C07C323/36 ,  C07D213/74 ,  C07D307/91 ,  H01L51/54

Abstract: 本发明涉及覆盖层用化合物及包含其的有机发光器件，本发明的一实例的覆盖层用化合物适用于有机发光器件，可提高有机发光器件的外部发光效率、色坐标及寿命。

公开(公告)号：CN111087374A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201910977477.8

申请日：2019-10-15

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  姜京敏 ,  金熙宙 ,  金东骏 ,  闵丙哲 ,  韩政佑 ,  林东焕 ,  李萤振 ,  林大喆 ,  权桐热

IPC: C07D307/91 ,  C07D409/12 ,  C07D333/76 ,  C07D409/14 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50 ,  H01L51/54

Abstract: 本发明涉及新颖化合物及包含其的有机发光器件，本发明一实例的新颖化合物适用于有机发光器件，可确保有机发光器件的高效率、长寿命、低的驱动电压及驱动稳定性。

公开(公告)号：CN104011594B

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201280061667.1

申请日：2012-12-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  李相勋 ,  金珍善 ,  尹柱豹 ,  金东明 ,  金镇祐 ,  朴璟镇 ,  李善熙 ,  黄致容

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更为详细地讲，涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物，其常温稳定性优良、变色少且透射率优良，从而即便省略HMDS工序，也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。

公开(公告)号：CN110938063A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201910858011.6

申请日：2019-09-11

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 咸昊完 ,  安贤哲 ,  姜京敏 ,  金东骏 ,  徐净雅 ,  韩政佑 ,  李政炫 ,  权桐热 ,  李成圭

IPC: C07D405/12 ,  C07D405/14 ,  C07D409/12 ,  C07D209/86 ,  C07D409/14 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50 ,  H01L51/54

Abstract: 本发明涉及新颖的覆盖层用化合物及包含其的有机发光器件。根据本发明的一实例的化合物以胺为中心，在一侧结合咔唑以及在另一侧结合二苯并呋喃、二苯并噻吩或二烷基芴，可获得可吸收可见光范围的较宽的带隙，上述咔唑及二苯并呋喃、二苯并噻吩或二烷基芴通过连接基与胺相结合而维持高折射率，在胺的另一侧结合C10以上的芳基或杂芳基，通过改善折射率的同时增大紫外线范围的吸收波长，从外部紫外线暴露中改善稳定性，可实现高效率、高色纯度及长寿命有机发光器件。