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公开(公告)号：CN105316714B
公开(公告)日：2017-11-14
申请号：CN201510736803.8
申请日：2013-09-23
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够可靠地形成纵横比高且非常狭窄的间距的线和间隔图形的各向异性镀敷方法以及薄膜线圈。在施加电流来形成涂膜的各向异性镀敷方法中，一边由镀敷液(21)的搅拌部分地破坏在镀敷形成用的电极膜或者形成于该电极膜的表面的涂膜的表面产生的镀敷液(21)的金属离子稀薄层(17)中的、存在于想要选择性地镀敷成长的方向上的该金属离子稀薄层(17)一边形成涂膜。
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公开(公告)号：CN103695972B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201310435022.6
申请日：2013-09-23
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够可靠地形成纵横比高且非常狭窄的间距的线和间隔图形的各向异性镀敷方法以及薄膜线圈。在施加电流来形成涂膜的各向异性镀敷方法中，一边由镀敷液（21）的搅拌部分地破坏在镀敷形成用的电极膜或者形成于该电极膜的表面的涂膜的表面产生的镀敷液（21）的金属离子稀薄层（17）中的、存在于想要选择性地镀敷成长的方向上的该金属离子稀薄层（17）一边形成涂膜。
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公开(公告)号：CN105316714A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510736803.8
申请日：2013-09-23
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够可靠地形成纵横比高且非常狭窄的间距的线和间隔图形的各向异性镀敷方法以及薄膜线圈。在施加电流来形成涂膜的各向异性镀敷方法中，一边由镀敷液(21)的搅拌部分地破坏在镀敷形成用的电极膜或者形成于该电极膜的表面的涂膜的表面产生的镀敷液(21)的金属离子稀薄层(17)中的、存在于想要选择性地镀敷成长的方向上的该金属离子稀薄层(17)一边形成涂膜。
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公开(公告)号：CN103695972A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310435022.6
申请日：2013-09-23
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够可靠地形成纵横比高且非常狭窄的间距的线和间隔图形的各向异性镀敷方法以及薄膜线圈。在施加电流来形成涂膜的各向异性镀敷方法中，一边由镀敷液（21）的搅拌部分地破坏在镀敷形成用的电极膜或者形成于该电极膜的表面的涂膜的表面产生的镀敷液（21）的金属离子稀薄层（17）中的、存在于想要选择性地镀敷成长的方向上的该金属离子稀薄层（17）一边形成涂膜。
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