密封构造
    1.
    发明公开
    密封构造 审中-实审

    公开(公告)号:CN115605694A

    公开(公告)日:2023-01-13

    申请号:CN202180033905.7

    申请日:2021-06-07

    Abstract: 本发明抑制在轴孔的内周面与密封环的外周面之间产生间隙。密封构造(1)是用于实现轴(50)与供该轴(50)插入的轴孔(61)之间的环状间隙的密封的密封装置。密封构造(1)包括:密封环(2),安装于轴(50)的槽(51),并绕轴线(x)呈环状;以及被卡定部(3),形成于轴(50)的槽(51)的底面(52)。密封环(2)具有形成于内周面(21)的卡定部(4)。卡定部(4)和被卡定部(3)形成为能够相互卡定,并形成为在相互卡定时密封环(2)被向外周侧按压。

Patent Agency Ranking