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公开(公告)号：CN101313247A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200680043327.0
申请日：2006-11-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/0397
Abstract: 本发明是提供感辐射线性树脂组合物，其能使液浸曝光方法所得的图案形状良好，且具有优良解像度及焦点深度充裕性，且对液浸曝光时所接触的折射率液体(浸渍液)的溶出物量较少，可形成在透镜及抗蚀膜之间介由波长193nm的折射率超过1.44但不足1.85的液浸曝光用液体照射辐射线的液浸曝光微影蚀刻法中所使用的抗蚀膜。该感辐射线性树脂组合物含有；含具有内酯结构的重复单元的碱不溶性或碱难溶性但在酸作用下可成为碱易溶性的树脂，及感辐射线性酸发生剂。
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