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发明公开
化学机械研磨用组合物及研磨方法审中-实审转让

公开(公告)号：CN116333686A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202211383330.4

申请日：2022-11-07

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 须原辽 , 柳桥健司 , 栉田悠贵

IPC: C09K3/14 , H01L21/321

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用组合物及研磨方法，所述化学机械研磨用组合物可使钨膜的研磨速度大且减少钨膜表面腐蚀的产生。本发明的化学机械研磨用组合物含有(A)选自由下述通式(1)～通式(3)所表示的化合物所组成的群组中的至少两种、(B)铁(III)化合物及(C)研磨粒，pH为2以上且5以下。(式(1)～式(3)中，R1及R2各自独立地表示碳数为n以下的烷基，R3各自独立地表示烃基；M‑表示一价阴离子；n表示3以上的整数)

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