公开(公告)号：CN110402271B

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN201880017366.6

申请日：2018-03-01

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 星野泰辉 ,  小林大介

IPC: C08L71/00 ,  C08G65/336 ,  C09D171/00 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明提供能形成润滑性和耐久性优良的表面层的含氟醚组合物和涂布液、以及具有润滑性和耐久性优良的表面层的物品。含氟醚组合物包含含氟醚化合物(A)和含氟醚化合物(B)，所述含氟醚化合物(A)是具有含(CF2O)单元的聚(氧基全氟亚烷基)链和由下式(I)表示的基团的化合物，所述含氟醚化合物(B)是具有不含(CF2O)单元的聚(氧基全氟亚烷基)链和所述由式(I)表示的基团的化合物，‑SiRnL3‑n……(I)；其中，L是羟基或水解性基团，R是氢原子或1价的烃基。

公开(公告)号：CN111511802B

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN201880083180.0

申请日：2018-12-25

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 古川丰 ,  星野泰辉 ,  松浦启吾 ,  宇野诚人 ,  安乐英一郎

IPC: C08G65/336 ,  B05D7/24 ,  C08L71/02 ,  C09D5/16 ,  C09D171/02 ,  C09K3/18 ,  C23C14/12 ,  C09D183/04

Abstract: 提供：能够形成与以往同样地指纹污迹去除性、耐摩擦性优异、且与以往相比耐光性更优异的表面层的含氟醚化合物。一种含氟醚化合物，其由A1‑O‑(Rf1O)m‑A2表示。其中，A1为全氟烷基等，A2为‑Q1[‑C(R11)b(R12)3‑b]a等，Rf1为氟代亚烷基，m为2～500，Q1为a+1价的有机基团，R11为‑Q2‑Si(R21)c(R22)d(R23)e、R12为氢原子、卤素原子等，a为1～3的整数，b为2或3，Q2为单键或2价的有机基团，R21为‑Q3‑Si(R31)3‑g(R32)g，R22为烷基，R23为水解性基团或羟基，c、d及e为0～3，c+d+e为3，多个R11中、至少1个R11中的c为2或3，Q3为2价的有机基团，R31为烷基，R32为水解性基团或羟基，g为1～3。

公开(公告)号：CN110650991B

公开(公告)日：2023-01-17

申请号：CN201880033220.0

申请日：2018-05-24

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 星野泰辉 ,  高尾清贵

IPC: C08G65/331 ,  C07C41/26 ,  C07C43/13 ,  C07C67/03 ,  C07C67/08 ,  C07C67/307 ,  C07C69/63 ,  C08G65/323

Abstract: 本发明提供能够以高收率制造可用作适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体的含氟醚化合物的含氟醚化合物的制造方法。含氟醚化合物的制造方法是使R1OH与下式(1)所示的化合物反应，得到包含下式(1)所示的化合物、下式(2)所示的化合物和下式(3)所示的化合物的混合物，HO(O)C‑Rf2O‑(Rf1O)m‑Rf2‑C(O)OH…(1)HO(O)C‑Rf2O‑(Rf1O)m‑Rf2‑C(O)OR1…(2)R1O(O)C‑Rf2O‑(Rf1O)m‑Rf2‑C(O)OR1…(3)其中，Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基，m是2～200的整数，(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成，R1是1价的有机基团。

公开(公告)号：CN111051383B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201880057655.9

申请日：2018-08-29

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 星野泰辉 ,  宇野诚人 ,  石关健二 ,  山本弘贤 ,  富依勇佑 ,  松浦启吾

IPC: C08G65/336 ,  C07F7/18 ,  C09K3/18

Abstract: 提供：在非氟系有机溶剂中的溶解性优异、且即使在使用溶解有非氟系有机溶剂的组合物时也可以形成耐摩擦性优异的表面层的含氟醚化合物、组合物及物品。一种含氟醚化合物，其特征在于，具有：包含式A1所示的氧氟亚烷基单元的聚(氧氟亚烷基)链、和2个以上式B所示的基团。X1为具有1个以上氢原子的氟亚烷基。R为1价烃基。L为水解性基团或羟基。(OX1)式A1‑Si(R)nL3‑n式B。

公开(公告)号：CN113439111A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202080014140.8

申请日：2020-02-06

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 松浦启吾 ,  星野泰辉 ,  高尾清贵 ,  宇野诚人 ,  安乐英一郎 ,  青山元志 ,  香月尚树 ,  富依勇佑 ,  远田丰和 ,  山本弘贤

IPC: C09D171/02 ,  C08L71/02 ,  C09D7/63

Abstract: 提供能够形成耐摩擦性和耐滑动性优异的表面层的组合物和物品。本发明的组合物包含式(1)所示的化合物和式(2)所示的化合物，式(1)的Rf1中的‑CF3所示的基团的摩尔数相对于式(1)的Rf2中的位于最靠Y1侧的‑CF2‑所示的基团的摩尔数、式(2)的Rf3中的位于最靠Y2侧的‑CF2‑所示的基团的摩尔数和式(2)的Rf4中的位于最靠Y3侧的‑CF2‑所示的基团的摩尔数的总计摩尔数的比为0.001～0.1。式(1)为Rf1‑(OX1)m1‑O‑Rf2‑Y1‑[Si(R1)n1L13‑n1]g1，式(2)为[L23‑n2(R2)n2Si]g2‑Y2‑Rf3‑(OX2)m2‑O‑Rf4‑Y3‑[Si(R3)n3L33‑n3]g3。

公开(公告)号：CN109232880B

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN201810908612.9

申请日：2014-12-10

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 星野泰辉 ,  室谷英介 ,  矶部辉

IPC: C08G65/336 ,  C08G65/00 ,  C07F7/08

Abstract: 本发明提供一种硅化合物的制造方法，该方法能够以简便且容易的方法、高选择率地进行具有2‑丙烯基的化合物的氢硅烷化反应。本发明的硅化合物的制造方法是使具有‑CH2CH＝CH2所表示的基团的化合物(3)和具有H‑Si键的硅化合物(4)在过渡金属催化剂(C)以及具有‑S(＝O)‑所表示的基团的化合物(D)的存在下反应，得到具有‑CH2CH2CH2Si≡所表示的基团的化合物(5)。

公开(公告)号：CN111511802A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201880083180.0

申请日：2018-12-25

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 古川丰 ,  星野泰辉 ,  松浦启吾 ,  宇野诚人 ,  安乐英一郎

IPC: C08G65/336 ,  B05D7/24 ,  C08L71/02 ,  C09D5/16 ,  C09D171/02 ,  C09K3/18 ,  C23C14/12 ,  C09D183/04

Abstract: 提供：能够形成与以往同样地指纹污迹去除性、耐摩擦性优异、且与以往相比耐光性更优异的表面层的含氟醚化合物。一种含氟醚化合物，其由A1-O-(Rf1O)m-A2表示。其中，A1为全氟烷基等，A2为-Q1[-C(R11)b(R12)3-b]a等，Rf1为氟代亚烷基，m为2～500，Q1为a+1价的有机基团，R11为-Q2-Si(R21)c(R22)d(R23)e、R12为氢原子、卤素原子等，a为1～3的整数，b为2或3，Q2为单键或2价的有机基团，R21为-Q3-Si(R31)3-g(R32)g，R22为烷基，R23为水解性基团或羟基，c、d及e为0～3，c+d+e为3，多个R11中、至少1个R11中的c为2或3，Q3为2价的有机基团，R31为烷基，R32为水解性基团或羟基，g为1～3。

公开(公告)号：CN111051321A

公开(公告)日：2020-04-21

申请号：CN201880057659.7

申请日：2018-08-29

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 伊藤昌宏 ,  星野泰辉 ,  青山元志

IPC: C07F7/18 ,  B32B9/00 ,  C09D5/08 ,  C09K3/18

Abstract: 提供：可以形成耐候性及耐蚀性优异的表面层的含氟化合物、组合物及物品。R1-(OX)m-Y-Z(R2)q(R3)r-q所示的含氟化合物。R1为全氟烷基。X为具有1个以上氟原子的碳数2以上的亚烷基。m为0～6的整数。Y为单键或规定的连接基团。其中，Y为包含-OCF2-的亚烷基时，亚烷基中的-OCF2-的数量为1个。R4为氢原子或烷基。Z为碳原子、硅原子或氮原子。R2为氢原子、羟基或烷基。R3为-L1-Si(R)nL3-n，R为1价烃基，L为水解性基团或羟基，n为0～2的整数，L1为任选具有-O-的亚烷基。r为2或3，q为0～2的整数。

公开(公告)号：CN114127026B

公开(公告)日：2024-01-30

申请号：CN202080051115.7

申请日：2020-07-16

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 富依勇佑 ,  星野泰辉 ,  安乐英一郎 ,  石关健二 ,  秋山良司

IPC: C03C17/28 ,  C03C17/32 ,  C08J7/046 ,  B32B27/30 ,  B32B27/32 ,  B32B17/10 ,  C07F7/18 ,  C08G65/336 ,  G06F3/041

Abstract: 提供：表面层的指纹污迹去除性、耐摩擦性以及与保护薄膜的密合性优异的带表面层的物品。一种带表面层的物品，其特征在于，具有基材及设置于基材的表面的表面层，表面层包含在碳数2以上的氟烷基的碳‑碳原子之间具有‑O‑的基团，以包含4.96质量％的氟原子的玻璃作为标准样品，通过荧光X射线分析装置，分别测定表面层中的氟原子强度和标准样品中的氟原子强度，表面层中的氟原子强度除以标准样品中的氟强度而得到的归一化F强度为0.38～0.53。

公开(公告)号：CN116041689A

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN202310014193.5

申请日：2018-05-24

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 星野泰辉 ,  高尾清贵

IPC: C08G65/323 ,  C07C69/63 ,  C07C43/13 ,  C08G65/331

Abstract: 本发明提供能够以高收率制造可用作适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体的含氟醚化合物的含氟醚化合物的制造方法。含氟醚化合物的制造方法是使R1OH与下式(1)所示的化合物反应，得到包含下式(1)所示的化合物、下式(2)所示的化合物和下式(3)所示的化合物的混合物，HO(O)C‑Rf2O‑(Rf1O)m‑Rf2‑C(O)OH…(1)HO(O)C‑Rf2O‑(Rf1O)m‑Rf2‑C(O)OR1…(2)R1O(O)C‑Rf2O‑(Rf1O)m‑Rf2‑C(O)OR1…(3)其中，Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基，m是2～200的整数，(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成，R1是1价的有机基团。