公开(公告)号：CN109328246A

公开(公告)日：2019-02-12

申请号：CN201780038411.1

申请日：2017-06-26

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 小彼得·J·博尼塔蒂布斯 ,  F·约翰逊 ,  M·邹

IPC: C23G1/32 ,  C23C8/04 ,  C23C8/26 ,  H01F1/147 ,  C23F1/00 ,  C23F1/44

Abstract: 描述了用于选择性地去除烧制于金属结构的表面上的铝-硅涂层的方法。该方法包括在足以去除涂层而基本上不影响金属表面的条件下，使涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。还描述了用于制备磁性部件的方法。它们涉及在氮化步骤之前，使用烧制到表面上的铝-硅涂层，掩蔽部件表面的预选区域。然后根据本文概述的程序去除涂层。

公开(公告)号：CN109328246B

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201780038411.1

申请日：2017-06-26

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 小彼得·J·博尼塔蒂布斯 ,  F·约翰逊 ,  M·邹

IPC: C23G1/32 ,  C23C8/04 ,  C23C8/26 ,  H01F1/147 ,  C23F1/00 ,  C23F1/44

Abstract: 描述了用于选择性地去除烧制于金属结构的表面上的铝‑硅涂层的方法。该方法包括在足以去除涂层而基本上不影响金属表面的条件下，使涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。还描述了用于制备磁性部件的方法。它们涉及在氮化步骤之前，使用烧制到表面上的铝‑硅涂层，掩蔽部件表面的预选区域。然后根据本文概述的程序去除涂层。