公开(公告)号：CN111624802A

公开(公告)日：2020-09-04

申请号：CN202010114578.5

申请日：2020-02-25

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 增田智春 ,  安田政纪 ,  中崎滉平

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/139 ,  G03B21/00 ,  G03B21/20 ,  H04N9/31

Abstract: 光调制装置、光学模块和投影仪。减少重影或漏光。本发明的光调制装置具有：光调制元件，其对光进行调制；第1偏振元件，从光调制元件射出的光入射到该第1偏振元件；以及第2偏振元件，从第1偏振元件射出的光入射到该第2偏振元件，第1偏振元件具备：具有第1面和第2面的第1基材；设置于第1面的第1无机偏振层；以及隔着第1无机偏振层与第1基材对置设置的第1光吸收层，第2偏振元件具备：具有第3面和第4面的第2基材；设置于第3面的第2无机偏振层；以及隔着第2无机偏振层与第2基材对置设置的第2光吸收层，第1偏振元件配置成第1光吸收层与光调制元件的光射出面对置，第2偏振元件配置成第2基材的第4面与第1基材的第2面对置。

公开(公告)号：CN111624802B

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202010114578.5

申请日：2020-02-25

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 增田智春 ,  安田政纪 ,  中崎滉平

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/139 ,  G03B21/00 ,  G03B21/20 ,  H04N9/31

Abstract: 光调制装置、光学模块和投影仪。减少重影或漏光。本发明的光调制装置具有：光调制元件，其对光进行调制；第1偏振元件，从光调制元件射出的光入射到该第1偏振元件；以及第2偏振元件，从第1偏振元件射出的光入射到该第2偏振元件，第1偏振元件具备：具有第1面和第2面的第1基材；设置于第1面的第1无机偏振层；以及隔着第1无机偏振层与第1基材对置设置的第1光吸收层，第2偏振元件具备：具有第3面和第4面的第2基材；设置于第3面的第2无机偏振层；以及隔着第2无机偏振层与第2基材对置设置的第2光吸收层，第1偏振元件配置成第1光吸收层与光调制元件的光射出面对置，第2偏振元件配置成第2基材的第4面与第1基材的第2面对置。