公开(公告)号：CN104884563A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201380069046.2

申请日：2013-06-21

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 卢钟一 ,  姜东宪 ,  金泰完 ,  郑正焕 ,  崔渶楠 ,  洪昌基

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明涉及用于抛光铜的CMP浆料组合物，包含：抛光颗粒；络合剂；腐蚀抑制剂；和去离子水。该络合剂包含选自草酸、苹果酸、丙二酸和甲酸中的一种或多种有机酸以及甘氨酸。

公开(公告)号：CN101821354A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200880111053.3

申请日：2008-01-21

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 周霍摩 ,  金元来 ,  卢钟一 ,  李仁庆 ,  李泰永

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供了一种用于金属的化学机械抛光(CMP)的浆料组合物。该浆料组合物包括其平均分子量为从约600,000至约1,300,000并且其单体为丙烯酸和丙烯酰胺以约1∶30至约30∶1的摩尔比的共聚物。该浆料组合物呈现出非普列斯东行为以达到最小化的凹陷并获得高的平坦化程度。

公开(公告)号：CN101821354B

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN200880111053.3

申请日：2008-01-21

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 周霍摩 ,  金元来 ,  卢钟一 ,  李仁庆 ,  李泰永

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/06 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明提供了一种用于金属的化学机械抛光(CMP)的浆料组合物。该浆料组合物包括其平均分子量为从约600,000至约1,300,000并且其单体为丙烯酸和丙烯酰胺以约1∶30至约30∶1的摩尔比的共聚物。该浆料组合物呈现出非普列斯东行为以达到最小化的凹陷并获得高的平坦化程度。