公开(公告)号：CN1549948A

公开(公告)日：2004-11-24

申请号：CN02816845.3

申请日：2002-08-16

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： P·J·斯里科维尔 ,  P·C·P·鲍坦 ,  N·P·维尔拉德 ,  G·尼萨托 ,  P·A·西科尔

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1339

CPC classification number: G02F1/133305 ,  G02F1/13394 ,  G02F2001/133354

Abstract: 在显示器的两个基片(3，4)上应用相似图形的隔垫凸起(7，8)。当例如在滚筒对滚筒处理中将两个基片压到一起时，通过图形的形状和定位来纠正较小的未对准。

公开(公告)号：CN100565305C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN03816165.6

申请日：2003-06-18

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： P·A·西科尔 ,  G·P·卡曼

IPC: G02F1/1347 ,  H04N13/00

CPC classification number: G02B27/26 ,  G02F1/13471 ,  G02F1/13718 ,  G02F2201/343 ,  H04N13/302 ,  H04N13/332

Abstract: 一种装置，包括第一单元(10b)，所述第一单元包括多个第一元件(34b)，可以在非反射状态和反射状态之间控制所述第一元件，在非反射状态中具有第一偏振的电磁辐射被反射到第一程度，在反射状态中所述具有第一偏振的电磁辐射被反射到第二程度，所述第二程度大于所述第一程度。所述装置还包括放置在第一单元上的第二单元(10a)，所述第二单元包括多个第二元件(34a)，可以在非反射状态和反射状态之间控制所述第二元件，在非反射状态中具有第二偏振的电磁辐射被反射到第三程度，在反射状态中具有第二偏振的所述电磁辐射被反射到第四程度，所述第四程度大于所述第三程度。安排所述第一和第二元件使得所述第一偏振不同于所述第二偏振。该装置可用在反射立体显示器中。

公开(公告)号：CN1666142A

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：CN03816165.6

申请日：2003-06-18

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： P·A·西科尔 ,  G·P·卡曼

IPC: G02F1/1347 ,  H04N13/00

CPC classification number: G02B27/26 ,  G02F1/13471 ,  G02F1/13718 ,  G02F2201/343 ,  H04N13/302 ,  H04N13/332

Abstract: 一种装置，包括第一单元(10b)，所述第一单元包括多个第一元件(34b)，可以在非反射状态和反射状态之间控制所述第一元件，在非反射状态中具有第一偏振的电磁辐射被反射到第一程度，在反射状态中所述具有第一偏振的电磁辐射被反射到第二程度，所述第二程度大于所述第一程度。所述装置还包括放置在第一单元上的第二单元(10a)，所述第二单元包括多个第二元件(34a)，可以在非反射状态和反射状态之间控制所述第二元件，在非反射状态中具有第二偏振的电磁辐射被反射到第三程度，在反射状态中具有第二偏振的所述电磁辐射被反射到第四程度，所述第四程度大于所述第三程度。安排所述第一和第二元件使得所述第一偏振不同于所述第二偏振。该装置可用在反射立体显示器中。