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发明公开
测定装置、测定方法以及程序审中-实审

公开(公告)号：CN118999783A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202410505270.1

申请日：2024-04-25

Applicant: 横河电机株式会社 , 横河计测株式会社

Inventor： 石原元太郎 , 松川弘明

IPC: G01J3/02 , G01J3/04 , G01J3/12 , G01J3/28 , G01N21/01 , G01N21/17

Abstract: 本发明涉及的测定装置(1)具有：控制部(80)；以及分光器(10)，其具有形成有使得被测定光(L1)通过的开口部(132a)的光学元件，控制部(80)执行至少对被测定光(L1)的光束点(P)在开口部(132a)内处于第1位置(x1)时的第1光谱(S1(i))以及处于第2位置(x2)时的第2光谱(S2(i))进行合成，生成缩窄化的被测定光(L1)的合成光谱(Sr(i))的第1处理，第1位置(x1)包含从光束点(P)的开口部(132a)内的基准位置(x0)向规定方向(D)的一侧偏移后的位置，第2位置(x2)包含从基准位置(x0)向另一侧偏移后的位置。

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