公开(公告)号：CN102308364A

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN201080006400.3

申请日：2010-02-02

Applicant: 株式会社V技术 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 棚田祐二 ,  石井大助 ,  梶山康一 ,  水村通伸 ,  畑中诚 ,  松井浩平 ,  池田武司

IPC: H01L21/027 ,  G02B26/10 ,  G02B27/09 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B27/0927 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/0961 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70583

Abstract: 本发明提供一种激光曝光装置，其具备：第一蝇眼透镜(2)，其扩大激光的截面形状；第一光程差调整构件(3)，其配置于第一蝇眼透镜(2)的激光的入射侧且使向第一蝇眼透镜(2)的各聚光透镜(2a)分别入射的激光产生相位差；会聚透镜(4)，其将从第一蝇眼透镜(3)射出的激光转变为平行光；第二蝇眼透镜(6)，其将激光带来的光掩模的照明区域内的光强度分布均匀化；第二光程差调整构件(7)，其配置于第二蝇眼透镜(6)的激光的入射侧，使向第二蝇眼透镜(6)的各聚光透镜(6a)分别入射的激光产生相位差。由此，将由蝇眼透镜产生的激光的干涉条纹平均化，同时降低激光的照度不均。