公开(公告)号：CN106537259B

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201580037054.8

申请日：2015-08-07

Applicant: 株式会社I.S.T

Inventor： 辻川一辉 ,  柏昌彰

IPC: G03G15/20 ,  B32B27/18 ,  B32B27/34 ,  C10M107/38 ,  F16C33/20

Abstract: 本发明的课题是提供即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的低摩擦构件。本发明所涉及的低摩擦构件LS至少由润滑性材料PL、PS和聚酰亚胺树脂MR形成。并且，其表面粗糙度Rsk为0.500以上，润滑性材料的表面露出率为15.0％以上。另外，表面粗糙度Rsk在0.0900以上且0.1400以下的范围内，并且，特别优选润滑性材料的表面露出率为35.0％以上。润滑性材料优选为氟树脂。并且，该低摩擦构件具有即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的特性。

公开(公告)号：CN106537259A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201580037054.8

申请日：2015-08-07

Applicant: 株式会社I.S.T

Inventor： 辻川一辉 ,  柏昌彰

IPC: G03G15/20 ,  B32B27/18 ,  B32B27/34 ,  C10M107/38 ,  F16C33/20

Abstract: 本发明的课题是提供即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的低摩擦构件。本发明所涉及的低摩擦构件LS至少由润滑性材料PL、PS和聚酰亚胺树脂MR形成。并且，其表面粗糙度Rsk为0.500以上，润滑性材料的表面露出率为15.0％以上。另外，表面粗糙度Rsk在0.0900以上且0.1400以下的范围内，并且，特别优选润滑性材料的表面露出率为35.0％以上。润滑性材料优选为氟树脂。并且，该低摩擦构件具有即使较长期使用也不容易失去低摩擦性的特性。