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发明公开
提高化妆料的保存稳定性的方法审中-实审

公开(公告)号：CN110290776A

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201880009987.X

申请日：2018-01-16

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 井上贵裕 , 立柳聪美 , 铃木裕之

IPC: A61K8/34 , A61K8/06 , A61Q19/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种长期使化妆料稳定化的方法。为了达成上述目的，本发明提供一种提高化妆料的保存稳定性的方法，其包括：配合下述通式(1)所示的化合物的步骤。(式(1)中，R1表示通式(2)所示的基团或碳原子数2或3的烃基所示的基团。) (式(2)中，R2表示碳原子数1～3的亚烷基，n表示数字0或1)。

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